[发明专利]排气装置、处理系统和处理方法

权利要求书

1.一种排气装置，其特征在于，包括：

设置于与处理容器连接的排气配管的第1压力调节部；

设置于所述第1压力调节部的下游侧的第2压力调节部；

设置于所述第1压力调节部的上游侧的第1真空计；和

设置于所述第1压力调节部与所述第2压力调节部之间的第2真空计。

2.如权利要求1所述的排气装置，其特征在于：

包括控制所述第1压力调节部和所述第2压力调节部的控制部，

所述控制部调节所述第2压力调节部以使得由所述第2真空计检测的压力成为预先设定的设定值。

3.如权利要求2所述的排气装置，其特征在于：

所述控制部在所述处理容器内进行成膜前调节所述第2压力调节部。

4.如权利要求2或3所述的排气装置，其特征在于：

所述第2真空计经由隔离阀与所述排气配管连接。

5.如权利要求4所述的排气装置，其特征在于：

所述控制部在所述处理容器内进行成膜时关闭所述隔离阀。

6.如权利要求2～5中任一项所述的排气装置，其特征在于：

所述控制部，在对所述处理容器内供给了非活性气体的状态下调节所述第2压力调节部。

7.如权利要求2～6中任一项所述的排气装置，其特征在于：

所述控制部，在将所述处理容器内维持在一定温度的状态下调节所述第2压力调节部。

8.如权利要求2～7中任一项所述的排气装置，其特征在于：

所述控制部，在将所述处理容器内控制为规定的压力以上的情况下，调节所述第2压力调节部以使得所述第2压力调节部的流导变小之后，调节所述第1压力调节部以使得所述处理容器内成为所希望的压力。

9.一种处理系统，其特征在于：

具有多个处理装置，该处理装置包括：

设置于与处理容器连接的排气配管的第1压力调节部；

设置于所述第1压力调节部的上游侧的第1真空计；

设置于所述第1压力调节部的下游侧的第2压力调节部；和

设置于所述第1压力调节部与所述第2压力调节部之间的第2真空计，

所述处理系统具有控制部，该控制部调节多个所述处理装置各自的所述第2压力调节部以使得由多个所述处理装置各自的所述第2真空计检测的压力成为大致相同的。

10.一种使用处理装置的处理方法，其特征在于：

该处理装置包括：

设置于与处理容器连接的排气配管的第1压力调节部；

设置于所述第1压力调节部的上游侧的第1真空计；

设置于所述第1压力调节部的下游侧的第2压力调节部；和

设置于所述第1压力调节部与所述第2压力调节部之间的第2真空计，

所述处理方法调节所述第2压力调节部以使得由所述第2真空计检测的压力成为预先设定的设定值。