[发明专利]掩模板及其制备方法、掩模板组件在审

专利信息
申请号: 202010075660.1 申请日: 2020-01-22
公开(公告)号: CN111172495A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 郑勇;杜帅;丁文彪;代俊秀;高春燕 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;姜春咸
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 模板 及其 制备 方法 组件
【权利要求书】:

1.一种掩模板,其特征在于,包括掩模图案区,所述掩模图案区包括至少一个掩模单元,所述掩模板还包括两个开孔区和两个焊接区,所述两个开孔区分别位于所述掩模图案区的沿第一方向的不同侧,其中,一个所述焊接区位于一个所述开孔区的沿第一方向远离所述掩模图案区的一侧,另一个所述焊接区位于另一个所述开孔区的沿第一方向远离所述掩模图案区的一侧;

所述掩模单元内设置有多个蒸镀孔,所述开孔区内设置有多个缓冲孔,所述缓冲孔在平行于所述掩模板所处平面的任意方向上的最大尺寸与所述蒸镀孔在该方向上的最大尺寸之比大于100,所述多个缓冲孔沿第二方向等间距分布,所述第二方向位于所述掩模板所处平面且垂直于所述第一方向。

2.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述多个缓冲孔的边界中与所述掩模板的沿所述第一方向延伸的中心线的最远距离为第一距离,所述多个蒸镀孔的边界中与所述掩模板的沿所述第一方向延伸的中心线的最远距离为第二距离,所述第一距离与所述第二距离的差的绝对值小于或等于2mm。

3.根据权利要求1或2所述的掩模板,其特征在于,所述多个缓冲孔沿所述第二方向排成多排且沿所述第一方向排成多排,所述多个缓冲孔还沿所述第一方向等间距分布。

4.根据权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述缓冲孔沿所述第一方向的最大尺寸在5mm到20mm之间。

5.根据权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述缓冲孔沿所述第二方向的最大尺寸在1.5mm到5mm之间。

6.根据权利要求3所述的掩模板,其特征在于,沿所述第一方向相邻的缓冲孔在所述第一方向上的间距在0.5mm到2mm之间;沿所述第二方向相邻的缓冲孔在所述第二方向上的间距在0.5mm到2mm之间。

7.根据权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述缓冲孔与所述过渡区的最小间距在0.5mm到2mm之间;所述缓冲孔与所述蒸镀孔的最小间距在3mm到5mm之间。

8.根据权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述多个缓冲孔呈尺寸相同的矩形,所述矩形的长边方向为所述第一方向;

或者所述多个缓冲孔呈尺寸相同的正方形,所述正方形的一条边所在方向为所述第一方向;

或者所述多个缓冲孔呈尺寸相同的圆形。

9.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述掩模图案区的厚度和所述开孔区的厚度相等。

10.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述掩模图案区的厚度在4um到30um之间。

11.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述焊接区的厚度在15um到30um之间。

12.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述掩模板的材料为包含硅、锰、钛、氧、碳、氧、磷微量元素中的一种或几种的镍铁合金。

13.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述焊接区的厚度大于所述开孔区的厚度,相邻的焊接区与开孔区之间还设置有过渡区,所述过渡区的厚度沿从所述焊接区指向所述开孔区的方向逐渐降低,所述过渡区的厚度介于所述焊接区的厚度和所述开孔区的厚度之间。

14.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述焊接区的厚度大于所述开孔区的厚度,相邻的焊接区与开孔区之间还设置有过渡区,沿所述第一方向从所述过渡区的与相邻焊接区的边界到所述过渡区的相邻开孔区的设定位置处所述掩模板的厚度逐渐降低,所述设定位置沿所述第二方向与所述缓冲孔的内部位置相对。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010075660.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top