[发明专利]确认方法在审

专利信息
申请号: 202010079650.5 申请日: 2020-02-04
公开(公告)号: CN111564381A 公开(公告)日: 2020-08-21
发明(设计)人: 芥川幸人 申请(专利权)人: 株式会社迪思科
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L21/301;B23K26/53
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 乔婉;于靖帅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 确认 方法
【权利要求书】:

1.一种确认方法,对通过激光加工装置从被加工物的背面侧照射对于被加工物具有透过性的波长的激光束而在被加工物的内部形成改质层时的激光束的照射对被加工物的正面带来的影响进行确认,其中,

该确认方法具有如下的步骤:

确认用晶片准备步骤,准备在基材的正面上层叠有金属箔的确认用晶片;

改质层形成步骤,在将聚光点定位于该确认用晶片的该基材的内部的状态下,从该基材的背面侧照射对于该基材具有透过性的波长的激光束,并且使该聚光点和该确认用晶片在加工进给方向上相对移动,从而在该基材的内部形成改质层;

线状加工痕形成步骤,在与该加工进给方向垂直的转位进给方向上,在距离该改质层形成步骤中的激光束的照射位置为规定距离的位置,将聚光点定位于该确认用晶片的该基材与该金属箔的界面,在该状态下,从该基材的背面侧照射对于该基材具有透过性的波长的激光束,并且使该聚光点和该确认用晶片在该加工进给方向上相对移动,从而在该金属箔的正面上形成线状加工痕;以及

确认步骤,在实施了该改质层形成步骤和该线状加工痕形成步骤之后,根据该线状加工痕的位置对该改质层形成步骤中所照射的该激光束对该金属箔的正面带来的影响进行确认。

2.根据权利要求1所述的确认方法,其中,

该改质层形成步骤在实施了该线状加工痕形成步骤之后实施。

3.根据权利要求1或2所述的确认方法,其中,

该确认方法还具有如下的基准位置设定步骤:在实施了该确认用晶片准备步骤之后,将该确认用晶片中的要形成该改质层的位置设定为基准位置,

在该改质层形成步骤中,对该基准位置照射激光束,

在该线状加工痕形成步骤中,对在该转位进给方向上距离该基准位置为该规定距离的位置照射激光束。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社迪思科,未经株式会社迪思科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010079650.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top