[发明专利]流体杀菌装置在审
| 申请号： | 202010085858.8 | 申请日： | 2020-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN111732158A | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 樱井公人;加藤刚雄;藤冈纯;田中贵章;聂栋兴 | 申请（专利权）人： | 东芝照明技术株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;A61L9/20;B01D53/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 日本神奈川县横*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 流体 杀菌 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种流体杀菌装置，包括：
处理室，对流体进行处理；
光源室，设置有朝向所述处理室照射紫外线的光源；
分隔构件，具有紫外线透过性，将所述处理室与所述光源室加以划分；以及
第一膜，将与所述处理室相向的所述分隔构件的第一面加以覆盖。
2.根据权利要求1所述的流体杀菌装置，其中，
所述第一膜为氟系树脂。
3.根据权利要求1或2所述的流体杀菌装置，其中，
所述第一膜的厚度为10nm以下。
4.一种流体杀菌装置，包括：
处理室，对流体进行处理；
光源室，设置有朝向所述处理室照射紫外线的光源；
分隔构件，具有紫外线透过性，将所述处理室与所述光源室加以划分；以及
第二膜，将与所述光源室相向的所述分隔构件的第二面加以覆盖。
5.根据权利要求4所述的流体杀菌装置，其中，
所述第二膜是抑制由所述光源照射的紫外光的反射的抗反射膜。
6.根据权利要求4或5所述的流体杀菌装置，其中，
所述第二膜的厚度为30nm以上、60nm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝照明技术株式会社，未经东芝照明技术株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010085858.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
