[发明专利]流体杀菌装置在审

专利信息
申请号: 202010085858.8 申请日: 2020-02-11
公开(公告)号: CN111732158A 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 樱井公人;加藤刚雄;藤冈纯;田中贵章;聂栋兴 申请(专利权)人: 东芝照明技术株式会社
主分类号: C02F1/32 分类号: C02F1/32;A61L9/20;B01D53/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 日本神奈川县横*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 流体 杀菌 装置
【说明书】:

本发明的课题是维持杀菌性能。实施方式的流体杀菌装置包括处理室、光源室、分隔构件及第一膜。处理室对流体进行处理。光源室设置有朝向处理室照射紫外线的光源。分隔构件具有紫外线透过性,将处理室与光源室加以划分。第一膜将与处理室相向的分隔构件的第一面加以覆盖。

技术领域

本发明的实施方式涉及一种流体杀菌装置。

背景技术

已知如下的流体杀菌装置,其通过将成为光源的发光元件所发出的紫外线,向用以对例如水、气体等流体进行处理的处理室内照射,从而将流体进行杀菌。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开2014-233646号公报

发明内容

发明所要解决的问题

此种流体杀菌装置中,在将发出紫外线的发光二极管(Light Emitting Diode,LED)加以收纳的光源室与处理室之间配置分隔构件,以使LED与流体不接触,由此抑制LED的劣化。然而,通过配置分隔构件,会担忧杀菌性能下降。

本发明所要解决的问题为提供一种能够维持杀菌性能的流体杀菌装置。

解决问题的技术手段

实施方式的流体杀菌装置包括处理室、光源室、分隔构件及第一膜。处理室对流体进行处理。光源室设置有朝向处理室照射紫外线的光源。分隔构件具有紫外线透过性,将处理室与光源室加以划分。第一膜将与处理室相向的分隔构件的第一面加以覆盖。

发明的效果

依据本发明,能够维持杀菌性能。

附图说明

图1是表示第一实施方式的流体杀菌装置的应用例的示意图。

图2是表示第一实施方式的流体杀菌装置的主要部分的剖面图。

图3是表示第二实施方式的流体杀菌装置的主要部分的剖面图。

图4是表示第三实施方式的流体杀菌装置的主要部分的剖面图。

符号的说明

1、1A、1B:流体杀菌装置

8:供给箱

9:回收箱

12:泵

14:流量调整机构

22、24:连结构件

23、25:流路构件

26:周面

27:上游侧的一端

28:下游侧的另一端

30:处理室

31:处理室的前表面

32:处理室的侧面

33:内表面

40:光源室

41:基板

42:发光元件

43:光源

44:光源室的侧面

50:分隔构件

50a:分隔构件的第一面

50b:分隔构件的第二面

51:第一膜

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