[发明专利]曝光系统以及物品制造方法

权利要求书

1.一种曝光系统，包括：

第1曝光装置，对基板的第1拍摄区域进行曝光；

第2曝光装置，对所述基板的与所述第1拍摄区域不同的第2拍摄区域进行曝光；以及

标志形成装置，在所述基板的与所述第1拍摄区域及所述第2拍摄区域不同的位置形成对准标志，

所述曝光系统的特征在于，

所述第1曝光装置包括检测通过所述标志形成装置形成于所述基板的所述对准标志的第1标志检测部，

所述第2曝光装置包括检测通过所述标志形成装置形成于所述基板的所述对准标志的第2标志检测部，

所述第2曝光装置根据由所述第1曝光装置中的所述第1标志检测部检测出的所述对准标志的信息、和由所述第2标志检测部检测出的所述对准标志的信息，决定用于校正所述第2拍摄区域相对所述第1拍摄区域的排列误差的校正参数，反映该校正参数而对所述第2拍摄区域进行曝光。

2.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，

所述第1标志检测部以及所述第2标志检测部提供所述对准标志的图像的图像数据作为所述对准标志的信息。

3.根据权利要求2所述的曝光系统，其特征在于，

所述第2曝光装置根据来自所述第1标志检测部以及所述第2标志检测部的图像数据，计算由所述第1标志检测部得到的图像中的所述对准标志、与由所述第2标志检测部得到的图像中的所述对准标志之间的相对距离，根据该相对距离决定所述校正参数。

4.根据权利要求3所述的曝光系统，其特征在于，

所述第2曝光装置根据来自所述第1标志检测部的所述图像数据来计算作为所述对准标志的特征量的第1特征量，根据来自所述第2标志检测部的所述图像数据来计算作为所述对准标志的特征量的第2特征量，根据所述第1特征量和所述第2特征量，计算所述相对距离。

5.根据权利要求4所述的曝光系统，其特征在于，

所述特征量包括亮度、对比度、谱信息中的至少任意一个。

6.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，

还包括将所述基板从所述第1曝光装置搬送到所述第2曝光装置的搬送机构。

7.一种物品制造方法，其特征在于，包括：

使用权利要求1至6中的任意一项所述的曝光系统对基板进行曝光的工序；以及

使在所述工序中曝光后的所述基板显影的工序，

根据显影后的所述基板制造物品。