[发明专利]曝光系统以及物品制造方法

说明书

提供在成本以及生产率方面有利的曝光系统以及物品制造方法。曝光系统包括：第1曝光装置，对基板的第1拍摄区域曝光；第2曝光装置，对基板的与第1拍摄区域不同的第2拍摄区域曝光；标志形成装置，在基板的与第1拍摄区域及第2拍摄区域不同的位置形成对准标志。第1曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第1标志检测部，第2曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第2标志检测部，根据由第1曝光装置中的第1标志检测部检测出的对准标志的信息和由第2标志检测部检测出的对准标志的信息，决定用于校正第2拍摄区域相对第1拍摄区域的排列误差的校正参数，反映该校正参数而对第2拍摄区域曝光。

技术领域

本发明涉及曝光系统以及物品制造方法。

背景技术

在液晶显示器、有机EL显示器等平板显示器(以下称为“FPD”)的制造中，使用将掩模的图案转印到基板上的曝光装置。在FPD的制造中，为了提高玻璃基板的利用效率，能够采用向1张玻璃基板上的不同的区域转印面板的Multi Module on Glass(玻璃上多模，MMG)生产方式。另外，为了提高MMG应对时的生产效率，还研究使用多个曝光装置的方法。例如，首先用第1曝光装置，在基板上的预定位置形成对准标志(以下还简称为“标志”)，并且针对第1拍摄(shot)区域进行第1曝光。之后，用第2曝光装置，检测该基板的标志并根据其检测结果进行对位，之后，针对第2拍摄区域进行第2曝光(参照例如专利文献1、2)。

第2曝光装置需要高精度地检测由第1曝光装置形成的标志。在专利文献3中，公开了在测定检查装置之间协商测量条件，以使在多个测定检查装置之间测量同一标志时的测量误差降低。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-92137号公报

专利文献2：日本特开2007-199711号公报

专利文献3：国际公开第2007/102484号

发明内容

在以往技术中，为了用第2曝光装置正确地检测标志，用第1曝光装置高精度地形成标志是前提。但是，实际上，由于使用的基板、基板上的抗蚀剂的差异等而标志的形成条件不同，所以第1曝光装置的标志的形成精度不稳定。因此，有时由第1曝光装置形成的标志的精度不足而第2曝光装置的标志的检测精度不佳。在该情况下，即使例如如上述以往技术那样在测定检查装置之间协商测量条件，仍无法检测标志。如果无法检测标志，则在该时间点停止生产，生产率降低。然而，在导入标志的形成精度高的标志形成装置时成本变高。

本发明的目的在于例如提供在成本以及生产率方面有利的曝光系统。

根据本发明的第1侧面，提供一种曝光系统，包括：第1曝光装置，对基板的第1拍摄区域进行曝光；第2曝光装置，对所述基板的与所述第1拍摄区域不同的第2拍摄区域进行曝光；以及标志形成装置，在所述基板的与所述第1拍摄区域及所述第2拍摄区域不同的位置形成对准标志，其特征在于，所述第1曝光装置包括检测通过所述标志形成装置形成于所述基板的所述对准标志的第1标志检测部，所述第2曝光装置包括检测通过所述标志形成装置形成于所述基板的所述对准标志的第2标志检测部，所述第2曝光装置根据由所述第1曝光装置中的所述第1标志检测部检测出的所述对准标志的信息、和由所述第2标志检测部检测出的所述对准标志的信息，决定用于校正所述第2拍摄区域相对所述第1拍摄区域的排列误差的校正参数，反映该校正参数而对所述第2拍摄区域进行曝光。

根据本发明的第2侧面，提供一种物品制造方法，其特征在于，包括：使用上述第1侧面所涉及的曝光系统对基板进行曝光的工序；以及使在所述工序中进行了所述曝光后的基板显影的工序，根据显影后的所述基板制造物品。

根据本发明，例如，能够提供在成本以及生产率方面有利的曝光系统。

附图说明