[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置包括：

容器载置部，其载置收容多张基板的收容容器；

多个基板处理部，其分别对所述基板进行处理；

第1基板输送机构，其具有移动自如的基台以及第1基板保持部和第2基板保持部，该第1基板保持部和第2基板保持部设为在该基台上独立地前后移动自如，并且，以使所述基板的左右方向上的缘部开放的方式自下方分别支承该基板的左右方向上的靠中央部的位置，该第1基板保持部和第2基板保持部一起前进从而一齐相对于所述收容容器交接所述基板；以及

互相层叠的多个第1基板载置部，其分别载置所述基板从而相对于各所述基板处理部交接所述基板，所述第1基板保持部和第2基板保持部单独地在所述基台上前进来交接所述基板。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置将多个单位模块互相层叠来设置，该多个单位模块均具备所述基板处理部以及在该基板处理部与所述第1基板载置部之间输送所述基板的第2基板输送机构，

所述第1基板载置部设于每个所述单位模块。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第2基板输送机构包括第3基板保持部，该第3基板保持部包括自侧方包围所述基板的包围部和设于该包围部的内周缘并支承所述基板的下表面的爪部。

4.根据权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置包括第2基板载置部，该第2基板载置部相对于所述第1基板载置部在纵向上排列设置，仅利用所述第1基板输送机构和所述第2基板输送机构中的第2基板输送机构交接所述基板。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第2基板载置部为调整所述基板的温度的温度调整部。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第1基板输送机构包括检测部，该检测部用于检测保持于所述第1基板保持部和/或所述第2基板保持部的所述基板的位置。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述检测部包括向所述基板的周缘部投射光的光投射部和接收被所述光投射部投射而穿过该基板的侧方的光的光接收部，

所述基板处理装置设有检测机构，该检测机构基于由所述光接收部输出的检测信号检测所述基板的周端的位置。

8.根据权利要求6或7所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置设有位置调整部，该位置调整部根据由所述检测部在所述第1基板保持部和所述第2基板保持部保持着所述基板时得到的检测结果，为了利用该第1基板保持部和所述第2基板保持部重新保持各所述基板而临时放置所述基板，并且调整临时放置的该基板的位置。

9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，

所述位置调整部相对于所述第1基板载置部在纵向上排列设置。

10.根据权利要求6～9中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置设有输出控制信号的控制部，

该控制部根据由所述检测部在所述第1基板保持部或所述第2基板保持部保持着所述基板时得到的检测结果，输出所述控制信号，以调整相对于所述第1基板载置部交接所述基板的位置。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部输出控制信号，以将所述第1基板输送机构自所述收容容器收取的所述多张基板向多个所述第1基板载置部连续输送。

12.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部输出控制信号，以使所述第1基板输送机构自多个所述第1基板载置部连续收取所述基板并将收取的各基板向所述收容容器输送。