[发明专利]负载锁定模块、基片处理装置和基片的输送方法

权利要求书

1.一种负载锁定模块，其切换内部的压力进行基片的输送，所述负载锁定模块的特征在于，包括：

设置在大气输送模块与真空输送模块之间的负载锁定室，其能够将内部在大气压与真空压之间切换，其中所述大气输送模块用于在大气压下输送基片，所述真空输送模块与进行基片的处理的处理模块连接，用于在真空压下进行基片的输送，所述负载锁定室包括具有阀体的开闭机构，其中所述阀体能够在上下方向移动以打开、关闭在所述负载锁定室与所述大气输送模块之间进行基片的送入送出的送入送出口；

设置在所述负载锁定室内的载置台，其用于交接已由处理模块处理过的基片，并且具有支承被交接的基片的交接机构；以及

检测部，其与基片被所述交接机构支承的位置对应地设定检测区域，在该检测区域中检测基片，

所述检测部设置在用于关闭所述送入送出口的所述阀体的关闭面侧，利用该阀体的上下方向的移动动作，使所述检测区域与被交接机构支承的基片的相对的位置关系变化以使得被所述交接机构支承的基片通过所述检测区域，通过使基片通过所述检测区域来进行基片的检测。

2.如权利要求1所述的负载锁定模块，其特征在于：

包括移动机构，其使所述检测部在收纳于所述阀体内的收纳位置与进入所述负载锁定室内形成所述检测区域的检测位置之间移动。

3.如权利要求1所述的负载锁定模块，其特征在于：

所述交接机构构成为使所支承的基片可升降，

所述检测部设置在所述负载锁定室的侧壁面，

利用被所述交接机构支承的基片的升降移动，使所述相对的位置关系变化，以使得基片通过所述检测区域。

4.如权利要求1至3中任一项所述的负载锁定模块，其特征在于：

在所述检测区域中没有检测到基片的情况下，实施输出用于停止从所述负载锁定室送出基片的动作的信号、或者发出警报的至少一者。

5.如权利要求1至3中任一项所述的负载锁定模块，其特征在于：

所述检测部是遮光传感器，其包括向被支承在所述检测区域中的基片的侧面投射检测光的投光部和接收所述检测光的受光部，且在所述检测光被基片遮挡的情况下检测为存在基片。

6.如权利要求5所述的负载锁定模块，其特征在于：

所述检测部基于在所述检测区域中基片的上端遮挡所述检测光的高度位置与基片的下端遮挡所述检测光高度位置之间的遮光范围，检测被所述交接机构保持的基片的翘曲量、倾斜、或者所述交接机构的异常的至少一者。

7.如权利要求5所述的负载锁定模块，其特征在于：

所述受光部是沿基片的厚度方向延伸地设置的线传感器。

8.如权利要求6所述的负载锁定模块，其特征在于：

在所述遮光范围比预先设定的容许范围大的情况下，实施输出用于停止从所述负载锁定室送出基片的动作的信号、或者发出警报的至少一者。

9.如权利要求1至3中任一项所述的负载锁定模块，其特征在于：

所述交接机构是从所述载置台可伸出、没入地设置以使基片在所述载置台上的位置与该载置台的上方侧的位置之间升降移动的多个升降销。

10.如权利要求1至3中任一项所述的负载锁定模块，其特征在于：

所述交接机构是从载置台伸出地设置以在所述载置台的上方侧的位置支承基片的多个交接销。

11.如权利要求1至3中任一项所述的负载锁定模块，其特征在于：

所述载置台包括对已由所述处理模块处理过的基片进行冷却的冷却机构。