[发明专利]显示背板及其制作方法、显示面板和显示设备在审

专利信息
申请号: 202010100107.9 申请日: 2020-02-18
公开(公告)号: CN113284909A 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 钱昱翰;刘利宾 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;宋海斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 背板 及其 制作方法 面板 设备
【权利要求书】:

1.一种显示背板,其特征在于,包括双栅极薄膜晶体管和第一薄膜晶体管;

所述双栅极薄膜晶体管包括第一有源层,所述第一有源层的中央部分具有第二掺杂浓度;所述双栅极薄膜晶体管的栅极绝缘层上设置有第一栅极,所述第一栅极与具有所述第二掺杂浓度的有源层部分正对并形成电容器,所述第一栅极与参考电压线连接;

所述第一薄膜晶体管包括第二有源层和第四栅极,所述第二有源层中正对第四栅极的部分具有第一掺杂浓度,所述第二掺杂浓度大于所述第一掺杂浓度;所述第四栅极与扫描线连接。

2.根据权利要求1所述的显示背板,其特征在于,所述双栅极薄膜晶体管还包括与所述第一有源层层叠设置的至少一部分栅极绝缘层,以及设置在所述栅极绝缘层上的第二栅极和第三栅极;

所述第二栅极和所述第三栅极之间所正对的所述第一有源层部分,具有所述第二掺杂浓度;所述第一栅极与所述第一有源层的中央部分正对并形成所述电容器。

3.根据权利要求2所述的显示背板,其特征在于,所述第一有源层的中央部分,沿平行于所述扫描线的方向延伸。

4.根据权利要求2所述的显示背板,其特征在于,所述第一有源层的中央部分,沿垂直于所述扫描线的方向延伸。

5.根据权利要求1所述的显示背板,其特征在于,所述第一薄膜晶体管还包括与所述第二有源层层叠设置的至少一部分所述栅极绝缘层;所述第四栅极设置在所述栅极绝缘层上。

6.根据权利要求1所述的显示背板,其特征在于,所述栅极绝缘层中正对所述第一栅极的部分具有第一厚度值,所述第一厚度值在1100埃至1300埃之间。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的显示背板,其特征在于,还包括层叠设置的缓冲层和第一有机层;所述双栅极薄膜晶体管中的有源层部分和所述第一薄膜晶体管中的有源层,都设置在第一有机层上。

8.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求1至7中任一项所述的显示背板。

9.一种显示设备,其特征在于,包括权利要求8所述的显示面板。

10.一种显示背板的制作方法,用于制备如权利要求1-7中任一项所述的显示背板,其特征在于,包括:

制备多个硅层区域;

在多个所述硅层区域中进行掺杂以形成多个有源层,且使得属于双栅极薄膜晶体管的第一有源层的中央部分具有第二掺杂浓度,以及属于第一薄膜晶体管的第四有源层具有第一掺杂浓度;

在多个所述有源层上制备栅极绝缘层,在所述栅极绝缘层上的预设位置制备多个栅极,至少形成所述双栅极薄膜晶体管、电容器和所述第一薄膜晶体管。

11.根据权利要求10所述的制作方法,其特征在于,在多个所述硅层区域中进行掺杂以形成多个有源层,包括:

在多个所述硅层区域中以第一掺杂参数进行掺杂,至少形成初始第一有源层和第二有源层;所述初始第一有源层具有第一掺杂浓度;

在所述初始第一有源层中的预设部分以第二掺杂参数进行掺杂,形成第一有源层,使得所述双栅极薄膜晶体管的第二栅极和第三栅极之间所正对的所述第一有源层部分,具有所述第二掺杂浓度。

12.根据权利要求11所述的制作方法,其特征在于,在所述初始第一有源层中的预设部分以第一掺杂参数进行掺杂,形成第一有源层,包括:

在所述双栅极薄膜晶体管的第二栅极和第三栅极之间所正对的所述初始第一有源层部分之外的区域,制备第二有机层;

在所述初始第一有源层中未被第二有机层覆盖的部分,以第二掺杂参数进行掺杂,形成所述第一有源层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010100107.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top