[发明专利]阵列基板制作方法、阵列基板及液晶显示装置

说明书

本发明是关于一种阵列基板制作方法、阵列基板及液晶显示装置，涉及显示技术领域。主要采用的技术方案为：第一氧化铟锡膜层的制作方法包括：层叠制作氧化铟锡膜层和金属保护层；于金属保护层背离氧化铟锡膜层一侧制作光刻胶层，采用半灰阶光罩工艺曝光，使光刻胶层形成第一光刻胶区和第二光刻胶区，所述第一光刻胶区对应红色像素区域和绿色像素区域，所述第二光刻胶区对应蓝色像素区域，所述第一光刻胶区的厚度小于所述第二光刻胶区的厚度；第一次刻蚀；灰化处理；第二次刻蚀；将所述第二光刻胶区剥离；将所述氧化铟锡膜层和所述金属保护层退火处理；第三次刻蚀；最终得到第一氧化铟锡膜层。采用本方法制作的阵列基板，可以降低蓝光对眼睛的伤害。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种阵列基板制作方法、阵列基板及液晶显示装置。

背景技术

液晶显示装置是采用三基色显像的，三基色中的蓝光是不可或缺的，但是蓝光还具有穿透力强的特点，尤其是450纳米以下的高频率、高能量的蓝紫光，也就是眼科医生口中的高能可见光，有能力穿透角膜和晶状体，造成视网膜以及眼底黄斑的损伤，所以液晶显示装置的防蓝光功能一直是技术人员关注的问题。

现有技术中，是通过在阵列基板或彩膜板中增添镀制高低折射匹配的膜层结构，增强对背光蓝光波段的反射，达到蓝光截止的目的。但是增加了新的膜层结构之后，该膜层对其它波长的光也有一定程度的反射，进而影响显示效果。

所以上述的技术问题，还需要进一步的解决。

发明内容

本发明的主要目的在于，提供一种新型结构的阵列基板制作方法、阵列基板及液晶显示装置，使其能够解决液晶显示装置的蓝光伤眼的技术问题。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种阵列基板制作方法，其包括：

在玻璃基板上制作栅极层、栅极绝缘层、有源层、源/漏极层、钝化绝缘层、第一氧化铟锡膜层以及第二氧化铟锡膜层；

所述第一氧化铟锡膜层的制作方法包括：

依次层叠制作氧化铟锡膜层和金属保护层；

于所述金属保护层背离所述氧化铟锡膜层一侧制作光刻胶层，采用半灰阶光罩工艺曝光，使所述光刻胶层形成第一光刻胶区和第二光刻胶区，所述第一光刻胶区对应红色像素区域和绿色像素区域，所述第二光刻胶区对应蓝色像素区域，所述第一光刻胶区的厚度小于所述第二光刻胶区的厚度；

第一次刻蚀，将所述光刻胶层未覆盖区域对应的氧化铟锡膜层的部分和金属保护层的部分去除；

灰化处理，将第一光刻胶区去除；

第二次刻蚀，将原所述第一光刻胶区覆盖区域对应的所述金属保护层去除；

将所述第二光刻胶区剥离；

将所述氧化铟锡膜层和所述金属保护层退火处理；

第三次刻蚀，将原所述第二光刻胶区覆盖区域对应的所述金属保护层去除。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

可选地，前述的阵列基板制作方法，其中所述第一氧化铟锡膜层较所述第二氧化铟锡膜层靠近所述玻璃基板。

可选地，前述的阵列基板制作方法，其中所述第二光刻胶区覆盖区域对应的部分所述第一氧化铟锡膜层，其在的380nm-450nm光波段的透过率低于剩余部分所述第一氧化铟锡膜层的透过率5％-10％。

可选地，前述的阵列基板制作方法，其中所述金属保护层为钼层；

或，所述金属保护层为依次层叠设置在所述氧化铟锡膜层上的钼层和铝层；