[发明专利]用于生成数据处理模型和版图的方法、设备和存储介质

权利要求书

1.一种生成数据处理模型的方法，包括：

获取第一半导体工艺的第一数据集，所述第一数据集包括与所述第一半导体工艺相关的第一样本版图的图案信息；

获取第二半导体工艺的第二数据集，所述第二数据集包括与所述第二半导体工艺相关的第二样本版图的图案信息，所述第一半导体工艺和所述第二半导体工艺具有至少一个取值相同的属性；以及

通过将所述第一数据集作为原始数据，以及将所述第二数据集作为目标数据，确定用于生成预测版图的数据处理模型，所述预测版图与所述第二半导体工艺相关；

其中确定用于生成所述预测版图的所述数据处理模型包括：

获取用于对版图中的图案或图案元素进行变换的预定义操作；以及

通过将所述第一数据集作为所述原始数据，以及将所述第二数据集作为所述目标数据，进一步基于所述预定义操作来确定所述数据处理模型。

2.根据权利要求1所述的方法，其中进一步基于所述预定义操作来确定所述数据处理模型包括：

构建包括所述预定义操作的初始处理模型；

通过将所述第一数据集作为所述原始数据，以及将所述第二数据集作为所述目标数据，训练所述初始处理模型；以及

将经训练的所述初始处理模型确定为所述数据处理模型。

3.根据权利要求1所述的方法，其中进一步基于所述预定义操作来确定所述数据处理模型包括：

通过将所述第一数据集作为原始数据，以及将所述第二数据集作为目标数据，训练用于所述数据处理模型的中间处理模型；以及

利用所述预定义操作来更新所述中间处理模型，作为所述数据处理模型。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定义操作包括以下至少一项：

对图案或图案元素的缩放操作，

对图案或图案元素的旋转操作，

将第一类型的图案或图案元素转换为第二类型的图案或图案元素的映射操作，所述第一类型不同于所述第二类型，或

对图案或图案元素的尺寸的运算操作。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述数据处理模型是基于神经网络的模型。

6.一种生成数据处理模型的方法，包括：

获取第一半导体工艺的第一数据集，所述第一数据集包括与所述第一半导体工艺相关的第一样本版图的图案信息；

获取第二半导体工艺的第二数据集，所述第二数据集包括与所述第二半导体工艺相关的第二样本版图的图案信息，所述第一半导体工艺和所述第二半导体工艺具有至少一个取值相同的属性；以及

通过将所述第一数据集作为原始数据，以及将所述第二数据集作为目标数据，确定用于生成预测版图的数据处理模型，所述预测版图与所述第二半导体工艺相关；

其中所述第一数据集包括所述第一样本版图中的第一样本图案和所述第一样本图案的第一组测量尺寸，所述第二数据集包括所述第二样本版图中的第二样本图案的第二组测量尺寸，并且确定用于生成所述预测版图的所述数据处理模型包括：

通过将所述第一数据集作为原始数据，以及将所述第二数据集作为目标数据，确定将所述第一组测量尺寸转换为所述第二组测量尺寸的映射因子以及针对所述第一样本图案的卷积操作；以及

基于所述映射因子、所述卷积操作和所述第一样本图案，生成所述数据处理模型。

7.一种生成版图的方法，包括：

获取第一半导体工艺的参考数据，所述参考数据包括与所述第一半导体工艺相关的参考版图的图案信息；

获取针对第二半导体工艺的第一数据处理模型，所述第一半导体工艺和所述第二半导体工艺具有至少一个取值相同的属性，所述第一数据处理模型是通过根据权利要求1-6中的任一项所述的方法而确定的；以及

基于所述参考数据和所述第一数据处理模型，生成与所述第二半导体工艺相关的预测版图。