[发明专利]无孔纳米材料研磨方法

权利要求书

1.一种无孔纳米材料研磨方法，其特征在于：包括如下步骤：

步骤1，准备干性纳米材料；

步骤2，将干性纳米材料投入研磨罐内进行研磨，在研磨过程中对研磨罐内进行抽真空；

步骤3，在抽真空研磨过程中在研磨罐内投入研磨液混合研磨；

步骤4，在研磨罐内通过陶瓷研磨辊对纳米材料进行研磨，研磨过程中温度控制在30~90℃，研磨时间0.3~5小时，研磨辊转速为500~3000RPM；

所述步骤1中，干性纳米材料由以下重量组分组成：

聚酯树脂29~65份；

纳米氮化硅5~35份；

纳米二氧化钛2~32份；

纳米活性碳酸钙1~19份；

纳米硅灰石1.5~18份；

纳米硅酸铝1~18份；

在研磨罐研磨进行抽真空，将研磨过程中所产生的气体抽离，从而杜绝了气体存在，在研磨过程中产生气泡的问题，实现无孔材料的研磨。

2.根据权利要求1所述的一种无孔纳米材料研磨方法，其特征在于：所述步骤1中，干性纳米材料由以下重量组分组成：

聚酯树脂40份；

纳米氮化硅21份；

纳米二氧化钛15份；

纳米活性碳酸钙12份；

纳米硅灰石4份；

纳米硅酸铝8份。

3.根据权利要求1所述的一种无孔纳米材料研磨方法，其特征在于：所述步骤2中，将干性纳米材料投入湿法研磨设备的研磨罐内进行研磨，研磨罐为金属研磨罐。

4.根据权利要求3所述的一种无孔纳米材料研磨方法，其特征在于：所述步骤2中，通过真空泵对金属研磨罐内进行抽真空研磨，可将研磨过程中产生的气体抽离。

5.根据权利要求1所述的一种无孔纳米材料研磨方法，其特征在于：所述步骤3中，在研磨液中添加强电解质阴离子分散剂，所述电解质阴离子分散剂为木质素磺酸盐系、聚烯烃磺酸盐系、磺酸盐系或腐植酸系或硫酸酯盐中的一种或两种以上的组合。

6.根据权利要求5所述的一种无孔纳米材料研磨方法，其特征在于：所述强电解质阴离子分散剂为木质素磺酸钠。

7.根据权利要求6所述的一种无孔纳米材料研磨方法，其特征在于：所述步骤4中，陶瓷研磨辊采用多片式研磨辊设置。

8.根据权利要求7所述的一种无孔纳米材料研磨方法，其特征在于：所述步骤4中，研磨过程中温度控制在60℃，研磨时间2小时，研磨辊转速为1000RPM。