[发明专利]一种显示面板及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 202010112622.9 | 申请日: | 2020-02-24 |
公开(公告)号: | CN111162111B | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 张浩;王景泉;王博 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;G06V40/16 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄丽 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板的显示区包括:盲孔区以及包围所述盲孔区的光学补偿区;所述光学补偿区包括:围绕所述盲孔区的光学补偿子像素,以及位于所述光学补偿子像素靠近所述盲孔区一侧的反射结构;在垂直于所述显示面板所在平面的方向上,部分所述反射结构的正投影与所述光学补偿子像素的正投影有交叠;所述反射结构包括相对设置的第一反射层和第二反射层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述光学补偿子像素包括:具有斜面的平坦化层,以及在所述平坦化层之上依次堆叠的阳极、发光功能层以及阴极;所述阳极在所述平坦化层上的正投影、所述发光功能层在所述平坦化层上的正投影以及所述阴极在所述平坦化层上的正投影均覆盖所述斜面;所述斜面朝向所述盲孔区。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:衬底基板,位于所述衬底基板与所述平坦化层之间的薄膜晶体管;位于所述阴极之上的封装层,位于所述封装层之上的触控电极;
所述第一反射层与所述触控电极同层设置的,所述第二反射层与所述薄膜晶体管的任一电极层同层设置。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第二反射层与最接近所述平坦化层的所述薄膜晶体管的源漏电极层同层设置。
5.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第一反射层包括多个相互间隔的第一环状反射部件;所述第一环状反射部件包围所述盲孔区;所述第二反射层包括多个相互间隔的第二环状反射部件;所述第二环状反射部件包围所述盲孔区。
6.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述斜面与所述显示面板所在平面的夹角为20°~30°。
7.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述斜面的长度为2微米~3微米。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示区还包括:所述光学补偿区之外的子像素区;所述子像素区包括子像素;
所述光学补偿子像素的开口面积大于或等于与其发光颜色相同的所述子像素的开口面积。
9.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板上形成盲孔区以及包围所述盲孔区的光学补偿区;其中,所述光学补偿区包括:围绕所述盲孔区的光学补偿子像素,以及位于所述光学补偿子像素靠近所述盲孔区一侧的反射结构;所述反射结构包括相对设置的第一反射层和第二反射层。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,形成光学补偿区的所述光学补偿子像素,具体包括:
在所述衬底基板之上形成厚度均一的平坦化层;
采用半色调掩膜工艺在所述光补偿像素区形成具有斜面的平坦化层的图案,所述斜面朝向所述盲孔区;
在具有斜面的所述平坦化层之上依次形成阳极、发光功能层以及阴极。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在形成所述平坦化层之前,所述方法还包括在所述衬底基板之上形成薄膜晶体管的步骤;
在形成所述阴极之后,所述方法还包括形成封装层以及在所述封装层之上形成触控电极的步骤;
形成所述反射结构具体包括:
在形成所述薄膜晶体管任一电极的同时形成第二反射层;
在形成所述触控电极的同时形成第一反射层。
12.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1~8任一项所述的显示面板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的