[发明专利]用于TiAl基合金的Sn-xAl烧结剂及制备方法、TiAl基合金的制备方法及制品有效
申请号: | 202010119287.5 | 申请日: | 2020-02-26 |
公开(公告)号: | CN111266570B | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 路新;潘宇;惠泰龙;张策;徐伟;刘博文;杨芳;曲选辉 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | B22F1/00 | 分类号: | B22F1/00;B22F3/02;B22F3/10;C22C13/00;C22C14/00 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 佟林松 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 tial 合金 sn xal 烧结 制备 方法 制品 | ||
本发明提供了一种用于TiAl基合金的Sn‑xAl烧结剂及制备方法、TiAl基合金的制备方法及制品。该用于TiAl基合金的Sn‑xAl烧结剂包括以下原料:单质Sn粉和Al粉;所述单质Sn粉和Al粉的质量比为90~95:5~10;所述的Sn‑xAl烧结剂对于TiAl基体的润湿角小于20°。本发明中以Al诱导界面润湿的Sn基合金形成Sn‑xAl烧结剂,能够改善Sn对TiAl基体的润湿性,从而促进TiAl基合金粉末的烧结致密化。
技术领域
本发明涉及粉末冶金技术领域,具体涉及一种用于TiAl基合金的Sn-xAl烧结剂及制备方法、TiAl基合金的制备方法及制品。
背景技术
TiAl基合金具有轻质、高强、耐热、优异的抗高温氧化及抗蠕变性能,是一类介于镍基、钴基高温合金和高级陶瓷材料之间理想的高温结构材料。目前TiAl基合金主要应用于航空发动机和汽车工业领域,随着TiAl基合金的进一步发展,其应用领域不断扩大。针对材料本征特性,粉末冶金制备工艺具有独特优势,它可以获得均匀细晶组织,便于添加合金化元素实现新型成分设计,同时对于形状复杂的制件可以实现近净成形,材料利用率高且成本较低,因此,粉末冶金技术是获得TiAl基合金应用零部件最为有效的技术手段之一。
然而在以合金粉末为原料制备TiAl基合金过程中,发现TiAl合金粉末存在烧结活性低、致密化困难等问题。这是由于合金粉末在进行固相烧结时,主要靠固相的扩散和原子迁移进行,过程非常缓慢,很难充分填充孔隙,尤其现阶段发展的第三代高温TiAl合金粉末烧结致密化难度更大,导致粉末冶金TiAl基合金制件力学性能得不到充分发挥。而为提升TiAl基合金粉末成形坯致密度,通常采用加压烧结或者靠近液相线温度烧结,往往导致制品形状单一,复杂零件无法直接制备,同时晶粒粗大,制备成本大幅增加。因此,实现高性能TiAl基合金的常压烧结致密化是目前粉末冶金TiAl基合金领域发展所面临的核心问题。
前期研究表明,由于Sn元素熔点低、沸点高,在烧结过程中含量稳定,液相容易获得,因此添加微量Sn元素可对TiAl基合金粉末的烧结起到一定的改善作用。然而实验中发现Sn对于TiAl基合金表面润湿性不佳,难以达到液相烧结的良好状态,这是导致添加Sn元素粉末对TiAl基合金烧结温度降低不显著、Sn的活化作用并没有得到全面发挥的主要原因。因此在此基础上探究更为有效的改善措施是推动粉末冶金TiAl基合金发展的必要条件。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种用于TiAl基合金的Sn-xAl烧结剂及制备方法、TiAl基合金的制备方法及制品,以Al诱导界面润湿的Sn基合金形成用于TiAl基合金的Sn-xAl烧结剂,能够改善Sn对TiAl基体的润湿性,从而促进TiAl基合金粉末的烧结致密化,以解决现有技术中Sn对于TiAl基合金表面润湿性不佳,难以达到液相烧结的良好状态的技术问题。
为了实现上述目的,根据本发明的第一方面,提供了一种用于TiAl基合金的Sn-xAl烧结剂。
该用于TiAl基合金的Sn-xAl烧结剂包括以下原料:单质Sn粉和Al粉;所述单质Sn粉和Al粉的质量比为90~95:5~10;所述的Sn-xAl烧结剂对于TiAl基体的润湿角小于20°。
进一步的,所述单质Sn粉和Al粉的粒度为低于-500目标准筛;所述Sn-xAl烧结剂的粒度为低于-325目标准筛。
为了实现上述目的,根据本发明的第二方面,提供了一种用于TiAl基合金的Sn-xAl烧结剂的制备方法。
根据上述的用于TiAl基合金的Sn-xAl烧结剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1-1:粉末原料准备,选取单质Sn粉和Al粉,并确定单质Sn粉和Al粉的配比;
S1-2:混合,将所述单质Sn粉和Al粉混合均匀,得到混合粉末;
S1-3:预扩散处理,将步骤S1-2中的所述混合粉末在真空下进行预扩散处理;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科技大学,未经北京科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010119287.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。