[发明专利]沉浸式显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种制造沉浸式显示装置的方法，其特征在于，包含：

形成第一发光层于衬底上，其中所述衬底包括像素阵列，其包括复数个第一像素、复数个第二像素及复数个第三像素，所述像素阵列于水平方向具有第一解析度，所述像素阵列于垂直方向具有第二解析度，所述第一解析度与人眼的可视水平视角之比值实质上大于或等于60，所述第二解析度与人眼的可视垂直视角之比值实质上大于或等于60；

移除位于所述第二像素上方并透过第一牺牲层露出的所述第一发光层的一部分；

形成第二发光层于所述第一牺牲层上方及所述第二像素上方，且移除所述第一牺牲层；

移除位于所述第三像素上方并透过第二牺牲层露出的所述第一发光层的一部分；

形成第三发光层于所述第二牺牲层上方及所述第三像素上方，且移除所述第二牺牲层。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一发光层是藉由阴影遮罩所形成，且所述第一发光层覆盖所述这些第一像素、所述这些第二像素及所述这些第三像素。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一发光层是藉由喷墨打印所形成，且所述第一发光层覆盖所述这些第一像素、所述这些第二像素及所述这些第三像素。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中移除所述第一牺牲层还包括利用剥除制程同时移除所述第一牺牲层以及所述第二发光层位于所述第一牺牲层上方的一部分。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中移除所述第二牺牲层还包括利用剥除制程同时移除所述第二牺牲层以及所述第三发光层位于所述第二牺牲层上方的一部分。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一牺牲层包含感光层，其是经过微影制程图样化。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一牺牲层还包含释放层，介于所述衬底与所述感光层间。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述第一牺牲层还包含阻障层，介于所述感光层与所述释放层间。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包含于形成所述第一发光层前，形成像素定义层于所述衬底上，以区隔各所述第一像素、各所述第二像素及各所述第三像素。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一解析度实质上介于1920至128K之间。

11.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二解析度实质上介于1080至72K之间。

12.一种沉浸式显示装置，其特征在于，包括：

衬底；

像素阵列设置在所述衬底上，其中所述像素阵列包括复数个像素，且所述像素阵列于水平方向具有第一解析度，所述像素阵列于垂直方向具有第二解析度，所述第一解析度与人眼的可视水平视角之比值实质上大于或等于60，所述第二解析度与人眼的可视垂直视角之比值实质上大于或等于60；以及

眼球追踪器，设置于所述衬底的一侧，其中所述眼球追踪器用于追踪人眼位置。

13.如权利要求12所述的沉浸式显示装置，其特征在于，所述衬底包括可挠式衬底，其中所述可挠式衬底用于提供所述沉浸式显示装置平面显示模式和曲面显示模式。

14.如权利要求12所述的沉浸式显示装置，其特征在于，还包括：

光学元件，位于所述这些像素至少一者上方，其中所述光学元件用于使所述这些像素产生左、右眼视差图像。

15.如权利要求12所述的沉浸式显示装置，其特征在于，所述眼球追踪器包括复数个眼球追踪单元，所述这些眼球追踪单元是嵌入所述衬底。