[发明专利]基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质在审
申请号: | 202010120395.4 | 申请日: | 2020-02-26 |
公开(公告)号: | CN111650813A | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 清富晶子;保坂理人;西山直;久野和哉 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30;H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 检查 方法 以及 记录 介质 | ||
1.一种基板检查装置,具备:
存储部,其构成为存储检查制程以及根据形成有多个覆膜的基板的周缘部的摄像图像得到的检查图像数据;以及
边缘检测部,其构成为使用所述存储部中存储的所述检查制程并且基于所述存储部中存储的所述检查图像数据来检测所述多个覆膜中的检查对象覆膜的边缘即对象边缘,
其中,所述多个覆膜各自的边缘沿所述基板的周缘延伸,
所述检查制程是将多个从多个选项之中确定出一个选项所得到的参数进行组合来构成的。
2.根据权利要求1所述的基板检查装置,其特征在于,
所述检查制程是通过来自操作者的操作输入将多个确定出所述一个选项所得到的所述参数进行组合来构成的。
3.根据权利要求1或2所述的基板检查装置,其特征在于,
所述存储部构成为存储预先设定的检测区域来作为由所述边缘检测部进行边缘检测的区域,
所述边缘检测部构成为使用所述存储部中存储的所述检查制程和所述检测区域来检测所述对象边缘中的位于所述检测区域内的部分。
4.根据权利要求1或2所述的基板检查装置,其特征在于,
还具备边缘校正部,
所述存储部构成为存储预先设定的检测区域来作为由所述边缘检测部进行边缘检测的区域,
所述边缘校正部构成为进行从所述边缘检测部的检测结果中排除所述检测区域外的数据的校正处理。
5.根据权利要求1或2所述的基板检查装置,其特征在于,
还具备边缘校正部,所述边缘校正部构成为进行如下的校正处理:计算将由所述边缘检测部检测出的所述对象边缘的数据系列进行平滑化而计算出的基准线与所述数据系列中包括的各数据的差,并排除所述各数据中的该差比规定的阈值大的数据。
6.根据权利要求1或2所述的基板检查装置,其特征在于,
所述多个覆膜包括在所述检查对象覆膜之前形成的前工序覆膜,
所述存储部构成为存储前工序图像数据,所述前工序图像数据是拍摄形成所述检查对象覆膜前且形成所述前工序覆膜后的所述基板的周缘部而得到的图像数据,
所述边缘检测部构成为:通过将表示所述检查图像数据中包括的多个覆膜各自的边缘的信息与表示所述前工序图像数据中包括的所述前工序覆膜的边缘的信息进行比较,来检测所述对象边缘。
7.根据权利要求1或2所述的基板检查装置,其特征在于,
所述存储部构成为存储搜索范围,所述搜索范围规定在与所述摄像图像中包括的所述多个覆膜的边缘交叉的交叉方向上搜索所述对象边缘的范围,
所述边缘检测部构成为:使用所述存储部中存储的所述检查制程,基于所述存储部中存储的所述检查图像数据和所述搜索范围来从所述搜索范围中检测所述对象边缘,
所述搜索范围的大小是根据所述对象边缘的在所述交叉方向上的变动范围来设定的。
8.根据权利要求1或2所述的基板检查装置,其特征在于,
所述参数包含从包括以下各参数的组中选择出的至少一个参数:表示用于转换所述检查图像数据的颜色属性的转换条件的转换参数;表示搜索所述对象边缘的方向的搜索方向参数;表示用于从所述多个覆膜的边缘中选择一个所述对象边缘的优先级的优先级参数;以及表示是否使用去除所述对象边缘中包括的由于干扰引起的影响的滤波处理的滤波器参数。
9.根据权利要求1或2所述的基板检查装置,其特征在于,还具备:
周缘计算部,其构成为计算所述基板的理论上的周缘的位置;以及
宽度计算部,其基于由所述周缘计算部得到的所述基板的理论上的周缘的位置数据和由所述边缘检测部得到的所述对象边缘的位置数据,来计算所述基板的理论上的周缘与所述对象边缘之间的宽度。
10.根据权利要求9所述的基板检查装置,其特征在于,
所述周缘计算部构成为计算以基准基板的中心为基准得到的所述基准基板的理论上的周缘的位置来作为所述基板的理论上的周缘的位置。
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