[发明专利]基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质在审
申请号: | 202010120395.4 | 申请日: | 2020-02-26 |
公开(公告)号: | CN111650813A | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 清富晶子;保坂理人;西山直;久野和哉 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30;H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 检查 方法 以及 记录 介质 | ||
本发明提供一种基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质,能够根据图像数据更可靠地检测多个边缘中的检查对象的边缘。基板检查装置具备:存储部,其构成为存储检查制程以及根据形成有多个覆膜的基板的周缘部的摄像图像得到的检查图像数据;以及边缘检测部,其构成为使用存储部中存储的检查制程并且基于存储部中存储的检查图像数据来检测多个覆膜中的检查对象覆膜的边缘即对象边缘。多个覆膜各自的边缘沿基板的周缘延伸。检查制程是将多个从多个选项之中确定出一个选项所得到的参数进行组合来构成的。
技术领域
本公开涉及一种基板检查装置、基板处理装置、基板检查方法以及计算机可读取的记录介质。
背景技术
专利文献1公开了一种基板摄像装置,所述基板摄像装置具备:旋转保持部,其保持基板并且使该基板旋转;镜构件,其具有与被旋转保持部保持的基板的端面及背面的周缘区域相向的反射面;以及照相机,其具有摄像元件。在该基板摄像装置中,来自基板的表面的周缘区域的光同来自基板的端面的光被上述反射面反射后的反射光一同经由透镜输入至照相机的摄像元件。由此,能够通过一台照相机同时拍摄基板的表面的周缘区域和基板的端面这双方。由该基板摄像装置拍摄到的摄像图像数据例如有时使用于检查在基板的表面形成的覆膜的边缘的状态。
专利文献1:日本特开2017-152443号公报
发明内容
本公开说明能够根据图像数据更可靠地检测多个边缘中的检查对象的边缘的基板检查装置、基板处理装置、基板检查方法以及计算机可读取的记录介质。
本公开的一个观点所涉及的基板检查装置具备:存储部,其构成为存储检查制程以及根据形成有多个覆膜的基板的周缘部的摄像图像得到的检查图像数据;以及边缘检测部,其构成为使用存储部中存储的检查制程并且基于存储部中存储的检查图像数据来检测多个覆膜中的检查对象覆膜的边缘即对象边缘。多个覆膜各自的边缘沿基板的周缘延伸。检查制程是将多个从多个选项之中确定出一个选项所得到的参数进行组合来构成的。
根据本公开所涉及的基板检查装置、基板处理装置、基板检查方法以及计算机可读取的记录介质,能够根据图像数据更可靠地检测多个边缘中的检查对象的边缘。
附图说明
图1是表示基板处理系统的一例的立体图。
图2是沿着图1所示的II-II线得到的截面图。
图3是表示处理模块(BCT模块、HMCT模块以及DEV模块)的一例的俯视图。
图4是表示处理模块(COT模块)的一例的俯视图。
图5是表示液处理用的单元的一例的示意图。
图6是表示从上方观察到的摄像用的单元的结构的一例的示意图。
图7是表示从侧方观察到的摄像用的单元的结构的一例的示意图。
图8是表示基板处理系统的主要部分的一例的块图。
图9是表示控制器的硬件结构的一例的概要图。
图10是表示基板处理方法的一例的流程图。
图11的(a)~图11的(c)是用于说明多个覆膜的形成过程的一例的图。
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