[发明专利]掩模板的清洗系统和清洗方法在审
申请号: | 202010121194.6 | 申请日: | 2020-02-26 |
公开(公告)号: | CN111215398A | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 郑立明 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;B08B13/00;B08B3/08 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 模板 清洗 系统 方法 | ||
1.一种掩模板的清洗系统,其特征在于,包括:
掩模板支撑设备,所述掩模板支撑设备用于支撑掩模板;
清洗设备,所述清洗设备用于向所述掩模板的表面吹超声波气体,所述超声波气体为经超声波处理的气体;所述超声波气体的流速大于预设速度,以在所述掩模板表面形成空化泡,清洗所述掩模板表面的污渍。
2.根据权利要求1所述的清洗系统,其特征在于,所述清洗设备包括压力腔、超声波增幅器、排气通道和排气装置,所述压力腔用于容纳高压气体;所述超声波增幅器与所述压力腔连接,用于生成高压超声波气体;所述排气装置设置于所述排气通道的一端,所述排气装置用于将清洗掉的污渍通过所述排气通道排出;
优选地,所述超声波增幅器的频率范围为40kHz~170kHz;
优选地,所述排气装置包括风扇。
3.根据权利要求2所述的清洗系统,其特征在于,所述压力腔内部的高压气体的压力高于所述掩模板表面的气体的压力,且高出的范围为12kPa~28kPa。
4.根据权利要求2所述的清洗系统,其特征在于,所述超声波增幅器位于所述压力腔的内部;所述清洗设备还包括喷嘴,所述喷嘴设置于所述压力腔靠近所述掩模板的表面的一端,用于将所述超声波气体吹出;
优选地,所述喷嘴与所述掩模板的距离范围为0.3mm~3mm。
5.根据权利要求4所述的清洗系统,其特征在于,所述压力腔和所述排气通道相邻设置;所述喷嘴远离所述压力腔的一端向所述排气通道倾斜。
6.根据权利要求4所述的清洗系统,其特征在于,所述清洗设备包括第一压力腔、第二压力腔、第一喷嘴和第二喷嘴,所述排气通道设置于所述第一压力腔和所述第二压力腔之间;
所述第一喷嘴设置于所述第一压力腔的一端,所述第一喷嘴远离所述第一压力腔的一端向所述排气通道倾斜;所述第二喷嘴设置于所述第二压力腔的一端,所述第二喷嘴远离所述第二压力腔的一端向所述排气通道倾斜;
优选地,所述清洗设备还包括第一超声波增幅器和第二超声波增幅器;所述第一超声波增幅器设置于所述第一压力腔内;所述第二超声波增幅器设置于所述第二压力腔内。
7.根据权利要求1所述的清洗系统,其特征在于,包括至少两个所述清洗设备;
至少两个所述清洗设备分别位于所述掩模板支撑设备的两侧。
8.根据权利要求1所述的清洗系统,其特征在于,还包括:喷淋设备,所述喷淋设备用于向所述掩模板喷淋药液,所述药液用于溶解所述掩模板表面的污渍。
9.一种掩模板的清洗方法,其特征在于,包括:
将掩模板放置于掩模板支撑设备上;
向所述掩模板的表面吹超声波气体,所述超声波气体为经超声波处理的气体;所述超声波气体的流速大于预设速度,以在所述掩模板表面形成空化泡,清洗所述掩模板表面的污渍。
10.根据权利要求9所述的清洗方法,其特征在于,在向所述掩模板的表面吹超声波气体之前,还包括:
向所述掩模板喷淋药液,所述药液用于溶解所述掩模板表面的污渍;
对所述掩模板进行干燥处理,以在所述掩模板表面形成结晶物质;
优选地,对所述掩模板进行干燥处理,包括:
将所述掩模板静置预设时间;或者,
采用风刀向所述掩模板吹风;或者,
加热所述掩模板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司,未经昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010121194.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。