[发明专利]掩模板的清洗系统和清洗方法

说明书

本发明实施例公开了一种掩模板的清洗系统和清洗方法。该掩模板的清洗系统包括：掩模板支撑设备和清洗设备，所述掩模板支撑设备用于支撑掩模板；所述清洗设备用于向所述掩模板的表面吹超声波气体，所述超声波气体为经超声波处理的气体；所述超声波气体的流速大于预设速度，以在所述掩模板表面形成空化泡，清洗所述掩模板表面的污渍。与现有技术相比，本发明实施例在确保对掩模板的清洗效果的基础上，减少了药液用量、减少了产生的废液量以及降低了危险性。

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模板的清洗系统和清洗方法。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示面板的应用范围越来越广泛，人们对显示面板的要求越来越高，显示面板生产厂商对显示面板的工艺要求也越来越高。

其中，蒸镀工艺是面板制造工艺的重要步骤，掩模板是蒸镀工艺中使用的关键部件。随着蒸镀生产的进行，掩模板表面会残留蒸镀材料，形成污渍，遮挡掩模板的开口。若污渍不及时清洗，会影响显示面板的产品良率。现有技术中多采用水系清洗的方式对掩模板进行清洗，然而，水系清洗存在药液用量大、产生的废液较多和危险性高的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种掩模板的清洗系统和清洗方法，以减少药液的用量、减少产生的废液量以及降低危险性。

为实现上述技术目的，本发明实施例提供了如下技术方案：

一种掩模板的清洗系统，包括：

掩模板支撑设备，所述掩模板支撑设备用于支撑掩模板；

清洗设备，所述清洗设备用于向所述掩模板的表面吹超声波气体，所述超声波气体为经超声波处理的气体；所述超声波气体的流速大于预设速度，以在所述掩模板表面形成空化泡，清洗所述掩模板表面的污渍。

从上述技术方案可以看出，本发明实施例创造性地提出了一种新的掩模板的清洗系统。该清洗系统与现有技术不同的是，其清洗设备能够向掩模板的表面吹超声波气体，超声波气体的流速大于预设速度，以在掩模板表面形成的空化泡迅速膨胀，起到微型爆炸的效果，微型爆炸的能量较大，能够使掩模板表面的污渍脱离掩模板并呈悬浮状态，以实现清洗污渍的效果。由此可见，与现有技术相比，本发明实施例无需采用多种药液对掩模板进行浸泡和清洗，减少了药液的用量和废液的产生。本发明实施例也无需采用IPA溶液对掩模板进行脱水处理，避免了IPA溶液带来的危险性。因此，本发明实施例在确保对掩模板的清洗效果的基础上，减少了药液用量、减少了产生的废液量以及降低了危险性。

进一步地，所述清洗设备包括压力腔、超声波增幅器、排气通道和排气装置，所述压力腔用于容纳高压气体；所述超声波增幅器与所述压力腔连接，用于生成高压超声波气体；所述排气装置设置于所述排气通道的一端，所述排气装置用于将清洗掉的污渍通过所述排气通道排出。本发明实施例通过设置清洗设备包括压力腔、超声波增幅器、排气通道和排气装置，用以实现清洗设备向掩模板吹出超声波气体。

进一步地，所述超声波增幅器的频率范围为40kHz～170kHz。例如，超声波增幅器的频率可选为40kHz、80kHz、120kHz和170kHz等。经发明人研究发现，超声波增幅器的频率越高，在掩模板表面产生的微型爆炸的能量越大，能够清洗的污渍颗粒越小，掩模板清洗的越干净。

进一步地，所述排气装置包括风扇。

进一步地，所述压力腔内部的高压气体的压力高于所述掩模板表面的气体的压力，且高出的范围为12kPa～28kPa。这样设置，使得高压超声波气体在该压力差下产生的超声波气体更容易形成空化泡，增强掩模板的清洗效果。

进一步地，所述超声波增幅器位于所述压力腔的内部；所述清洗设备还包括喷嘴，所述喷嘴设置于所述压力腔靠近所述掩模板的表面的一端，用于将所述超声波气体吹出。其中，喷嘴可以将高压超声波气体引出至掩模板的相应位置上，有利于实现清洗位置的精准对位。