[发明专利]一种光控取向方法有效
申请号: | 202010123858.2 | 申请日: | 2020-02-27 |
公开(公告)号: | CN111308791B | 公开(公告)日: | 2021-04-27 |
发明(设计)人: | 陆建钢;黄凯;冯一凡;何金蔓 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人: | 郑立 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光控 取向 方法 | ||
1.一种光控取向法,其特征在于,用同一个曝光光源同时对两层光取向层做光取向,在光源的光线照射方向,依次放置第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层;所述第一光取向层、所述第一旋光介质层使用透光材料制成;所述第一旋光介质层对光线偏振方向做N度旋转,使沿光线照射路径上所述第二光取向层的光取向与所述第一光取向层的光取向相差N度。
2.如权利要求1所述的光控取向法,其特征在于,在所述曝光光源与所述第一光取向层之间,加入掩模板,控制曝光区域。
3.如权利要求1所述的光控取向法,其特征在于,在光取向前,对所述第一光取向层、所述第二光取向层分别做预曝光处理,使所述第一光取向层、所述第二光取向层有一定的光取向。
4.如权利要求1所述的光控取向法,其特征在于,在所述第二光取向层后,沿光线方向再放置第二旋光介质层、第三光取向层,同时对三层进行光取向;所述第二旋光介质层与曝光光源之间的各层均为透光材料制成;所述第二旋光介质层对光线偏振方向做N度旋转。
5.如权利要求1所述的光控取向法,其特征在于,在制作偏振无关液晶器件时,控制所述第一旋光介质层对光线的偏振方向做90°旋转。
6.如权利要求1所述的光控取向法,其特征在于,在制作偏振无关液晶器件时,将所述第一光取向层、所述第一旋光介质层、所述第二光取向层组装成盒,曝光完成后,浸泡冲洗掉所述第一旋光介质层,填充入液晶即可。
7.一种光取向装置,其特征在于,包括沿曝光光线传播方向依次放置的第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层;所述第一光取向层、所述第一旋光介质层均使用透光材料制成;所述第一旋光介质层用于对光线偏振方向做N度旋转,使所述第二光取向层的光取向与所述第一光取向层的光取向相差N度。
8.如权利要求7所述的光取向装置,其特征在于,包括掩模板,放置在曝光光源与所述第一光取向层之间,所述掩模板只允许部分区域曝光光线透过。
9.如权利要求7所述的光取向装置,其特征在于,包括第二旋光介质层、第三光取向层,沿光线方向依次放置在所述第二光取向层后;所述第二光取向层、所述第二旋光介质层均为透光材料制成;所述第二旋光介质层用于对光线偏振方向做N度旋转。
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