[发明专利]一种光控取向方法

说明书

本发明提出一种光控取向法及装置，用同一个曝光光源同时对两层光取向层做光取向，在光源的光线照射方向，依次放置第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层，在所述曝光光源与所述第一光取向层之间，加入掩模板，控制曝光区域，控制所述第一旋光介质层对光线偏振方向做N度旋转，使沿光线照射路径上所述第二光取向层的光取向与所述第一光取向层的光取向相差N度。本发明的有益效果是，实现偏振无关液晶器件微区多畴的微区精准对位，且方法简便。

技术领域

本发明涉及液晶器件制备领域，一种光控取向方法。

背景技术

近年来，随着光通讯技术的发展，对光通讯中器件的要求也逐步提高。偏振无关器件的使用可以极大的降低光通讯系统的复杂度。光控微区多畴正交取向的液晶器件作为一种新的偏振无关器件，其偏振相关隔离度好，但其制备一直较为繁琐。传统方法是将两基板分别进行微区多畴曝光，然后将上下基板精准对位组装，这种方法较为复杂，且对工艺精度要求高，制备繁琐。且当畴区的尺寸较小时，要实现微区的精准对位就更加困难。因此这种传统的偏振无关液晶器件微区多畴实现方法无法得到大规模的商业生产。

发明内容

有鉴于现有技术的上述缺陷，本发明所要解决的技术问题是：在可以实现偏振无关液晶器件微区多畴正交取向的同时并减低工艺的复杂度。

为解决上述问题，本发明提出一种光控取向法，用同一个曝光光源同时对两层光取向层做光取向，在光源的光线照射方向，依次放置第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层；所述第一光取向层、所述第一旋光介质层使用透光材料制成。

进一步地，在所述曝光光源与所述第一光取向层之间，加入掩模板，控制曝光区域。

进一步地，控制所述第一旋光介质层对光线偏振方向做N度旋转，使沿光线照射路径上所述第二光取向层的光取向与所述第一光取向层的光取向相差N度。

进一步地，在光取向前，对所述第一光取向层、所述第二光取向层分别做预曝光处理，使所述第一光取向层、所述第二光取向层有一定的光取向。

进一步地，在所述第二光取向层后，沿光线方向再放置第二旋光介质层、第三光取向层，同时对三层进行光取向；所述第二旋光介质层与曝光光源之间的各层均为透光材料制成。

进一步地，在制作偏振无关液晶器件时，控制所述第一旋光介质层对光线的偏振方向做90°旋转。

进一步地，在制作偏振无关液晶器件时，将所述第一光取向层、所述第一旋光介质层、所述第二光取向层组装成盒，曝光完成后，浸泡冲洗掉所述第一旋光介质层，填充入液晶即可。

一种光取向装置，包括沿曝光光线传播方向依次放置的第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层；所述第一光取向层、所述第一旋光介质层均使用透光材料制成。

进一步地，包括掩模板，放置在曝光光源与所述第一光取向层之间，所述掩模板只允许部分区域曝光光线透过。

进一步地，包括第二旋光介质层、第三光取向层，沿光线方向依次放置在所述第二光取向层后；所述第二光取向层、所述第二旋光介质层均为透光材料制成。

本发明的有益效果是，实现偏振无关液晶器件微区多畴的微区精准对位，且方法简便。

附图说明

图1是本发明一个较佳实施例的装置结构图；

图2是本发明一个较佳实施例的上取向层5取向示意图；

图3是本发明一个较佳实施例的下取向层7取向示意图；

其中，1-曝光光源，2-掩膜版，3-上基板，4-上电极层1，5-上取向层，6-旋光介质层，7-下取向层，8-下电极层，9-下基板。

具体实施方式