[发明专利]一种匀光参数的配置装置及方法、剥离系统及方法

权利要求书

1.一种匀光参数的配置装置，其特征在于，包括：

用于容纳匀光物质的透光容器，所述匀光物质具有丁达尔效应；

检测模组，用于检测从容纳所述匀光物质的透光容器出射的能量光束的光斑均匀性参数；

控制器，所述控制器与所述检测模组通信连接，所述控制器用于在所述光斑均匀性参数满足第一阈值时，根据所述光斑均匀性参数确定匀光物质的第一匀光参数；

所述第一匀光参数包括匀光物质中匀光活性粒子的浓度和匀光活性粒子的粒径；

所述检测模组还用于检测从容纳所述匀光物质的透光容器出射的能量光束的功率密度；

所述控制器还用于在所述功率密度满足第二阈值时，根据所述功率密度确定匀光物质的第二匀光参数，所述第二匀光参数包括所述匀光物质在所述透光容器中的注入深度。

2.根据权利要求1所述的匀光参数的配置装置，其特征在于，所述检测模组包括与所述控制器通信连接的能量计，用于检测从容纳所述匀光物质的透光容器出射的能量光束的功率密度，并将所述功率密度发送给所述控制器。

3.根据权利要求1或2所述的匀光参数的配置装置，其特征在于，所述检测模组还包括与所述控制器通信连接的光束质量分析仪，用于检测从容纳所述匀光物质的透光容器出射的能量光束的光斑均匀性参数，并将所述光斑均匀性参数发送给所述控制器。

4.一种匀光参数的配置方法，其特征在于，包括：

提供容纳有匀光物质的透光容器，所述匀光物质具有丁达尔效应；

检测从容纳所述匀光物质的透光容器出射的能量光束的光斑均匀性参数；

当所述光斑均匀性参数满足第一阈值时，根据光斑均匀性参数确定匀光物质的第一匀光参数；

所述第一匀光参数包括匀光物质中匀光活性粒子的浓度和匀光活性粒子的粒径；

提供容纳有匀光物质的透光容器后，所述匀光参数的配置方法还包括：

检测从容纳所述匀光物质的透光容器出射的能量光束的功率密度；

当所述功率密度满足第二阈值时，根据功率密度确定匀光物质的第二匀光参数，第二匀光参数包括匀光物质在所述透光容器的注入深度。

5.一种剥离系统，其特征在于，包括：

盛放装置，用于盛放工件；

含有匀光物质的匀光装置，所述匀光物质具有丁达尔效应，所述匀光物质的匀光参数由权利要求4所述的匀光参数的配置方法配置；

光学聚焦单元，所述光学聚焦单元用于将能量光束投射至所述工件。

6.根据权利要求5所述的剥离系统，其特征在于，所述盛放装置包括第一载体，以及开设在所述第一载体上的第一槽体，所述第一槽体用于盛放工件；所述匀光装置包括第二载体，以及开设在所述第二载体上的第二槽体，所述第二槽体用于盛放所述匀光物质。

7.根据权利要求6所述的剥离系统，其特征在于，所述第一载体和所述第二载体为同一载体，所述第一槽体和所述第二槽体为同一槽体；或，

所述匀光装置位于所述光学聚焦单元的出光侧或入光侧。

8.根据权利要求6至7任一项所述的剥离系统，其特征在于，所述剥离系统还包括光线发生器，用于发射能量光束。

9.根据权利要求6至7任一项所述的剥离系统，其特征在于，所述盛放装置为可在三维方向运动的盛放装置。

10.根据权利要求6至7任一项所述的剥离系统，其特征在于，所述剥离系统还包括权利要求1～3任一项所述的匀光参数的配置装置。

11.一种剥离方法，其特征在于，包括：

提供盛放有工件的盛放装置；

利用匀光物质对能量光束进行均匀化，所述匀光物质为丁达尔物质，所述匀光物质的匀光参数采用权利要求4所述的匀光参数的配置方法配置；

向所述工件上投射经所述匀光物质均匀化后的所述能量光束，利用均匀化后的所述能量光束剥离所述工件。