[发明专利]一种匀光参数的配置装置及方法、剥离系统及方法有效
申请号: | 202010127468.2 | 申请日: | 2020-02-28 |
公开(公告)号: | CN111331249B | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 江锐;郭馨;王倩;周翊;赵江山;王宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | B23K26/046 | 分类号: | B23K26/046;B23K26/06;B23K26/362;B23K26/70 |
代理公司: | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人: | 何丽娜 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 参数 配置 装置 方法 剥离 系统 | ||
本发明公开一种匀光参数的配置装置及方法、剥离系统及方法,涉及激光加工技术领域,以优化能量光束的均匀性,提高工件的剥离质量。匀光参数的配置装置包括,用于容纳匀光物质的透光容器,匀光物质具有丁达尔效应。用于检测从容纳匀光物质的透光容器出射的能量光束的光斑均匀性参数的检测模组。与检测模组通信连接的控制器,控制器用于在光斑均匀性参数满足第一阈值时,根据光斑均匀性参数确定匀光物质的第一匀光参数。本发明还提供采用该配置装置的匀光参数的配置方法,包含有应用上述配置方法配置匀光物质的剥离系统,以及应用该剥离系统的剥离方法。
技术领域
本发明涉及激光加工技术领域,特别是涉及一种匀光参数的配置装置及方法、剥离系统及方法。
背景技术
利用激光器对工件进行刻蚀是一种非接触式刻蚀技术,其基本原理是,激光器发射的能量光束作用在工件上,利用能量光束与工件材料之间发生热作用和光作用,实现对工件的刻蚀。
当能量光束的能量聚焦至毫米级或微米级时,会出现能量光束的光斑分布不均匀的问题,从而降低刻蚀质量。
发明内容
本发明的目的在于提供一种匀光参数的配置装置及方法、剥离系统及方法,通过配置具有丁达尔效应的匀光物质的匀光参数,使能量光束的光斑均匀化,以提高均匀化的能量光束对工件的刻蚀质量。
为了实现上述目的,本发明提供一种匀光参数的配置装置,包括,用于容纳匀光物质的透光容器,匀光物质具有丁达尔效应;
检测模组,用于检测从容纳匀光物质的透光容器出射的能量光束的光斑均匀性参数;
控制器,控制器与检测模组通信连接,控制器用于在光斑均匀性参数满足第一阈值时,根据光斑均匀性参数确定匀光物质的第一匀光参数。
优选地,第一匀光参数包括匀光物质中匀光活性粒子的浓度和匀光活性粒子的粒径。
优选地,检测模组还用于检测从容纳匀光物质的透光容器出射的能量光束的功率密度;
控制器还用于在功率密度满足第二阈值时,根据功率密度确定匀光物质的第二匀光参数,第二匀光参数包括匀光物质在透光容器中的注入深度。
优选地,检测模组包括与控制器通信连接的能量计,用于检测从容纳匀光物质的透光容器出射的能量光束的功率密度,并将功率密度发送给控制器。
优选地,检测模组还包括与控制器通信连接的光束质量分析仪,用于检测从容纳匀光物质的透光容器出射的能量光束的光斑均匀性参数,并将光斑均匀性参数发送给控制器。
与现有技术相比,利用检测模块实时检测从容纳有匀光物质的透光容器中出射的能量光束的光斑均匀性参数。检测模块将检测到的光斑均匀性参数发送给控制器,且控制器内存储有第一阈值。当控制器确定的光斑均匀性参数不满足第一阈值时,调整匀光物质的第一匀光参数,直至控制器确定的光斑均匀性参数满足第一阈值时,根据光斑均匀性参数确定匀光物质的第一匀光参数。由此可见,具有第一匀光参数的匀光物质使能量光束的光斑更加均匀,当更加均匀的能量光束投射在工件上时,能够使得对工件的刻蚀更加均匀,从而提高工件的刻蚀质量。
本发明还提供一种匀光参数的配置方法,包括:
提供容纳有匀光物质的透光容器,匀光物质具有丁达尔效应;
检测从容纳匀光物质的透光容器出射的能量光束的光斑均匀性参数;
当光斑均匀性参数满足第一阈值时,根据光斑均匀性参数确定匀光物质的第一匀光参数。
优选地,第一匀光参数包括匀光物质中匀光活性粒子的浓度和匀光活性粒子的粒径。
优选地,提供容纳有匀光物质的透光容器后,匀光参数的配置方法还包括:
检测从容纳匀光物质的透光容器出射的能量光束的功率密度;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010127468.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。