[发明专利]日冕仪物镜散射杂散光的检测装置及检测方法

权利要求书

1.日冕仪物镜散射杂散光的检测装置，其特征在于，包括光源、检测模块及探测器，所述检测模块内沿光路方向依次安装有可调光阑I、消杂光光阑组、场镜组件、成像镜组件，待检镜片安装于所述可调光阑I右侧，所述探测器将所述检测模块的出光光束进行成像，得到所述待检镜片的散射点与鬼像点，其中，所述场镜组件包括可调光阑II、掩体、挡板和调焦场镜，所述可调光阑II和所述掩体安装于所述待检镜片焦点处，所述掩体用于遮挡光路中聚焦的直射光，所述调焦场镜安装于所述待检镜片的像面后侧，所述挡板设于所述调焦场镜周围；所述检测模块靠近光源一侧安装有平行光管，所述平行光管与待检镜片之间的距离为d，df(D_c+D₀)/D，其中D_c为平行光管口径，D₀为待检镜片口径，D为掩体口径，f为待检镜片焦距。

2.如权利要求1所述的日冕仪物镜散射杂散光的检测装置，其特征在于，所述消杂光光阑组包括多个消杂光光阑，多个所述消杂光光阑等间隔分布于所述待检镜片到其焦点之间，多个所述消杂光光阑的通光口径逐次等差递减。

3.如权利要求2所述的日冕仪物镜散射杂散光的检测装置，其特征在于，所述消杂光光阑组包括消杂光光阑I、消杂光光阑II及消杂光光阑III，设所述消杂光光阑I、消杂光光阑II及消杂光光阑III的通光口径为D₁、D₂、D₃，通光口径满足：D₁＝D₅+3(D₀-D₅)/4，D₂＝D₅+2(D₀-D₅)/4，D₃＝D₅+(D₀-D₅)/4，其中D₅为可调光阑II的通光口径，D₀为待检镜片的通光口径。

4.如权利要求1所述的日冕仪物镜散射杂散光的检测装置，其特征在于，所述成像镜组件包括Lyot光阑、变焦镜头，所述Lyot光阑设于所述调焦场镜对可调光阑I成像的像面位置，所述变焦镜头设于所述Lyot光阑与所述探测器之间，将所述待检镜片的散射杂散光及待检镜片表面二次反射的鬼像聚焦到所述探测器上。

5.如权利要求1所述的日冕仪物镜散射杂散光的检测装置，其特征在于，所述掩体的大小为光路中直射光束像斑的1.05-1.5倍。

6.如权利要求4所述的日冕仪物镜散射杂散光的检测装置，其特征在于，所述探测器采用superCMOS进行成像，拍摄成像模式可采用等曝光时间多次曝光叠加、递增曝光时间多次曝光或二者的结合。

7.日冕仪物镜散射杂散光的检测方法，利用如权利要求1-6任一项所述日冕仪物镜散射杂散光的检测装置，其特征在于，所述检测方法包括如下步骤：

使用所述日冕仪物镜散射杂散光的检测装置得到所述探测器的成像图；

将所述成像图中鬼像点的鬼像强度设为I_G，散射点的散射杂散光强度设为I_S；通过计算可以得到鬼像在像面处的分布L_G，鬼像强度I_G近似均匀分布；

计算散射杂散光分布：设像面处散射杂散光分布L_S，所述散射杂散光分布L_S＝I_S/I_G×L_G；

通过所述L_S判定所述待检镜片表面粗糙度及散射点是否满足要求。

8.如权利要求7所述的日冕仪物镜散射杂散光的检测方法，其特征在于，满足日冕仪使用要求的所述待检镜片的散射杂散光分布为：L_S∈(10^-7,10^-6)。