[发明专利]SRAM存储单元有效
申请号: | 202010134136.7 | 申请日: | 2020-03-02 |
公开(公告)号: | CN111415691B | 公开(公告)日: | 2023-10-20 |
发明(设计)人: | 蒋建伟 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G11C11/417 | 分类号: | G11C11/417 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | sram 存储 单元 | ||
本发明涉及一种半导体集成电路,具体涉及一种SRAM存储单元。其中包括第一NMOS管、第二NMOS管、第一PMOS管、第二PMOS管、第三PMOS管、第四PMOS管、第五PMOS管、第六PMOS管,以及第一传输管和第二传输管;第一传输管的第一端连接第一位线,第一传输管的另一端连接第一存储节点;第二传输管的第一端连接第二位线,第二传输管的另一端连接第二存储节点;第一存储节点还连接第一NMOS管的漏极、第二PMOS管的漏极、第三PMOS管的栅极、第四PMOS管的栅极、第五PMOS管的栅极和第二NMOS管的栅极;本发明可以解决相关技术中静态噪声容限低、漏电功耗高的问题,提高静态噪声容限以提高SRAM存储单元的良率,降低静态模式下的漏电功耗,进而更适合超低漏电的应用。
技术领域
本发明涉及一种半导体集成电路,具体涉及一种SRAM存储单元。
背景技术
集成电路工艺技术节点的不断先进给芯片的可靠性带来了很多挑战,其中一个挑战就是工艺的变化,对电路性能的影响。
图1是现有的一种传统6管SRAM存储单元,包括第一NOMS传输管和第二NMOS传输管,第一NOMS传输管的源极和漏极分别连接在位线BL和存储节点Q上,第二NOMS传输管的源极和漏极分别连接位线BLB和存储节点QN,存储节点Q和存储节点QN之间连接互锁的第一反相器和第二反相器,第一反相器101和第二反相器102的结构相同且都是采用由一个NMOS管和一个PMOS管连接形成的CMOS反相器。
传统6管存储单元的漏电功耗相对较大,不适用于对漏电功耗要求很高的应用中,如可穿戴设备、物联网应用等等。
发明内容
本发明提供了一种SRAM存储单元,可以解决相关技术中静态噪声容限低、漏电功耗高的问题。
本发明提供一种SRAM存储单元,包括第一NMOS管、第二NMOS管、第一PMOS管、第二PMOS管、第三PMOS管、第四PMOS管、第五PMOS管、第六PMOS管,以及第一传输管和第二传输管;
所述第一传输管的第一端连接第一位线,所述第一传输管的另一端连接第一存储节点;所述第二传输管的第一端连接第二位线,所述第二传输管的另一端连接第二存储节点;
所述第一存储节点还连接第一NMOS管的漏极、第二PMOS管的漏极、第三PMOS管的栅极、第四PMOS管的栅极、第五PMOS管的栅极和第二NMOS管的栅极;
所述第二存储节点还连接第二NMOS管的漏极、第五PMOS管的漏极、第六PMOS管的栅极、第一PMOS管的栅极、第二PMOS管的栅极和第一NMOS管的栅极;
所述第一PMOS管的源极连接电源,漏极连接第二PMOS管的源极和第三PMOS管的漏极;
所述第四PMOS管的源极连接电源,漏极连接第五PMOS管的源极和第六PMOS管的漏极。
可选的,所述第一传输管和第二传输管PMOS管,所述第一传输管的第一端为第一传输管源极或者漏极中的一极,所述第一传输管的另第一端为第一传输管源极或者漏极中的另一极,第一传输管的栅极为控制端;
所述第二传输管的第一端为第二传输管源极或者漏极中的一极,所述第二传输管的另第一端为第二传输管源极或者漏极中的另一极,第二传输管的栅极为控制端。
可选的,第一存储节点和第二存储节点的电位分别能够在0和1之间翻转,且第一存储节点和第二存储节点的电位相反。
可选的,若初始状态第一存储节点的电位为0、所述第二存储节点的电位为1,对所述SRAM存储单元进行写1操作时,将字线置为低电平,将第一位线置为高电平,第二位线为低电平。
可选的,在对所述SRAM存储单元进行写1操作后,所述SRAM存储单元存储信息为1,所述第一存储节点的电位为1、所述第二存储节点的电位为0。
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