[发明专利]一种单组份分子玻璃及其制备方法和应用在审
申请号: | 202010141743.6 | 申请日: | 2020-03-04 |
公开(公告)号: | CN111302979A | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 郑祥飞;徐亮;孙小侠;纪昌炜 | 申请(专利权)人: | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
主分类号: | C07C303/32 | 分类号: | C07C303/32;C07C309/42;C07C381/12;C07C68/06;C07C69/96;G03F7/004 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 王玉 |
地址: | 215100 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单组份 分子 玻璃 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明公开了一种单组份分子玻璃及其制备方法和应用。该单组份分子玻璃的制备方法包括将多羟基酚、催化剂、羟基保护基单体于容器中混合并充分反应,得到产物A;将产物A、催化剂、溴乙基苯磺酸钠于容器中混合并充分反应,得到产物B;将产物B、鎓盐溶于溶剂中,于室温下反应后得到产物,用水洗涤产物3‑5次,得到目标产物C。该分子玻璃具有优异的性能:成膜性好、单分散、无分子链缠结;光产酸单元与分子玻璃通过化学键键接,改善了光产酸剂相分离、光刻中光产酸剂分布不均匀的问题。应用在光刻胶中,同步改善光刻胶的分辨率、感度和对比度,提高光刻胶的综合性能。
技术领域
本发明涉及一种单组份分子玻璃及其制备方法和应用。
背景技术
化学增幅型光刻胶由于高感度、高分辨率等优异性能,广泛应用于I线(365nm)、深紫外(248nm,193nm)和极紫外光刻,成为主流光刻胶。化学增幅型光刻胶主要由成膜树脂、光致产酸剂、溶剂和其他助剂组成,曝光区域的光致产酸剂光解产酸,催化成膜树脂上的酸敏基团发生脱保护(正胶)或交联反应(负胶),导致成膜树脂的溶解性和极性发生变化,与未曝光区域产生溶解性差异。其中,成膜树脂和光致产酸剂对光刻胶的性能起着重要作用。传统的聚合物由于分子量大,分子链长,聚合物链缠结导致内应力和溶胀效应。另外,光致产酸剂溶解度较低,在胶膜内产生相分离;后烘过程中酸扩散导致光刻胶的分辨率降低等。解决链缠结和酸扩散是提高光刻胶性能的一个重要方向。
发明内容
本发明为了解决传统光刻胶中聚合物链缠结和酸扩散等问题,提供了一种单组份分子玻璃结构,该分子玻璃具有优异的性能:成膜性好、单分散、无分子链缠结;光产酸单元与分子玻璃上通过化学键键接,改善了光产酸剂相分离、光刻中光产酸剂分布不均匀的问题。应用在光刻胶中,同步改善光刻胶的分辨率、感度和对比度,提高光刻胶的综合性能。
本发明所采取的技术方案为:一种单组份分子玻璃,结构式如下:
其中,R4、R10为甲基、乙基、叔丁基、异丁基、苯基、对甲酚基、间甲酚基或结构式二中的结构,R1、R2、R3、R5、R6、R7、R8、R9、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17为-H、-F、甲基、乙基、叔丁基、异丁基、羟基、羟基保护基或光产酸结构,其中必有至少一个基团为羟基保护基和光产酸结构单元。
进一步地,所述光产酸结构单元结构如下:
其中,R18结构式为
其中,R19,R20,R21,R22,R23为-H、烷基、卤素、脂肪环或芳香烃。
进一步地,所述羟基保护基结构如下:
其中,R24为叔-丁氧羰基或烷氧基乙基;R25为叔丁基、叔戊基、1-甲基环戊基、1-乙基环戊基、二甲基苄基、二甲基环丙基、金刚烷基、1-乙基环己基、降冰片类取代基、或倍半萜内酯。
本发明还提供了一种单组份分子玻璃的制备方法,包括
将多羟基酚、催化剂、羟基保护基单体于容器中混合并充分反应,得到产物A;
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