[发明专利]衬底贴合装置在审
申请号: | 202010146859.9 | 申请日: | 2020-03-05 |
公开(公告)号: | CN112509938A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 田村裕宣;小野良治 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/68;H01L21/683 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衬底 贴合 装置 | ||
根据实施方式,提供一种具有第1吸台及第2吸台的衬底贴合装置。第1吸台吸附第1衬底。第2吸台与第1衬底对向配置。第2吸台吸附第2衬底。第1吸台具有第1台座、多个第1圆筒状部件、及多个第1驱动机构。多个第1驱动机构相互独立地驱动多个第1圆筒状部件。进而,衬底贴合装置具有相互独立地控制多个第1圆筒状部件中的空间的压力状态的第1压力控制机构。
相关申请
本申请享有2019年9月13日提出申请的日本专利申请号2019-167671的优先权的权益,该日本专利申请的全部内容被引用到本申请中。
技术领域
实施方式涉及一种衬底贴合装置。
背景技术
衬底贴合装置是使2个吸台吸附2片衬底,且使2个吸台相互靠近,由此将2片衬底贴合。此时,期望能使2片衬底高精度地贴合。
发明内容
实施方式提供一种能够使2片衬底高精度地贴合的衬底贴合装置。
根据实施方式,提供一种具有第1吸台及第2吸台的衬底贴合装置。第1吸台吸附第1衬底。第2吸台与第1衬底对向配置。第2吸台吸附第2衬底。第1吸台具有第1台座、多个第1圆筒状部件及多个第1驱动机构。多个第1驱动机构相互独立地驱动多个第1圆筒状部件。进而,衬底贴合装置具有相互独立地控制多个第1圆筒状部件中的空间的压力状态的第1压力控制机构。
附图说明
图1是表示第1实施方式的衬底贴合装置的构成的图。
图2A及图2B是表示第1实施方式中的圆筒状部件及驱动机构的构成的图。
图3是表示第1实施方式的衬底贴合装置的动作的流程图。
图4A及图4B是表示第1实施方式中与校正相关的动作的图。
图5是表示第1实施方式的第1变化例中与校正相关的动作的图。
图6是表示第1实施方式的第2变化例中与校正相关的动作的图。
图7是表示第1实施方式的第3变化例中与校正相关的动作的图。
图8是表示第1实施方式的第4变化例中与校正相关的动作的图。
图9是表示第1实施方式的第5变化例中与校正相关的动作的图。
图10是表示第2实施方式的衬底贴合装置的构成的图。
图11A及图11B是表示第2实施方式中与校正相关的动作的图。
图12A~图12C是表示第2实施方式的变化例的衬底贴合装置的动作的图。
图13A~图13C是表示第2实施方式的变化例的衬底贴合装置的动作的图。
图14A及图14B是表示第2实施方式的变化例的衬底贴合装置的动作的图。
具体实施方式
以下,参照随附附图,对实施方式的衬底贴合装置详细地进行说明。此外,本发明并不受这些实施方式限定。
(第1实施方式)
第1实施方式的衬底贴合装置是使2个吸台吸附2片衬底(例如2片晶圆)而使2片衬底贴合。例如,通过将2片衬底的电极彼此接合,构成半导体集成电路,能够使半导体集成电路高密度化、高功能化。也就是说,在成对的2片衬底各自的表面形成接合电极,使2片衬底重叠将电极彼此接合,从而完成衬底积层。此时,为了将2片衬底的电极彼此接合,适当地构成半导体集成电路,而期望能使2片衬底高精度地贴合。也就是说,在以空隙视角观察2片衬底贴合时,期望接合的表面彼此被活化,以无气泡的方式贴合。另外,在以对准视角观察2片衬底贴合时,期望以配置在各衬底上的成对的电极彼此也不产生位置偏移的方式,以亚微米级对准接合。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造