[发明专利]高速导热传感器在审

专利信息
申请号: 202010147554.X 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN113363032A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 严振洪;吕胤嘉 申请(专利权)人: 高尔科技股份有限公司
主分类号: H01C7/00 分类号: H01C7/00;H01C1/02;H01C1/08;H01C17/065;G01K7/22
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 李怀周
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 高速 导热 传感器
【权利要求书】:

1.一种高速导热传感器,其特征在于,包括:

一隔离层;

一热感应薄膜,包覆于该隔离层内;以及

两个第一电极层,包覆于该隔离层内,且分别设置于该热敏感应层之两个电极。

2.如权利要求1所述的高速导热传感器,更包括两个第二电极层,分别连接该第一电极层,且该第二电极层外露于该隔离层外。

3.如权利要求2所述的高速导热传感器,其特征在于,所述两个第二电极层更连接至一电路板,该电路板上更设有至少一散热单元。

4.如权利要求3所述的高速导热传感器,其特征在于,该散热单元为散热穿孔。

5.如权利要求3所述的高速导热传感器,其特征在于,该散热单元为金属块。

6.如权利要求3所述的高速导热传感器,其特征在于,该散热单元为氮化铝(AlN)散热块。

7.如权利要求3所述的高速导热传感器,其特征在于,该第二电极层以及该电路板之间更设有一连接单元,以将该第二电极层连接于该电路板上。

8.如权利要求1所述的高速导热传感器,其特征在于,更包括一基板相邻设置于该隔离层,以支撑该隔离层。

9.如权利要求8所述的高速导热传感器,其特征在于,该基板为硅基板、蓝宝石(sapphire)基板、氮化铝(AlN)基板、氧化铝(Al2O3)基板或氮化硅(Si3N4)基板。

10.如权利要求1所述的高速导热传感器,其特征在于,该隔离层为氮化铝(AlN)隔离层、氮化硅(Si3N4)隔离层或氧化铝(Al2O3)隔离层。

11.如权利要求1所述的高速导热传感器,其特征在于,该热感应薄膜为氧化钒(VOx)热感应薄膜、氧化锰热感应薄膜、氧化镍热感应薄膜或氧化钴热感应薄膜。

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