[发明专利]一种LIGA技术的埋丝光刻胶片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010150760.6 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN111430872B 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 伊福廷;刘静;张天冲;王波 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: H01P11/00 分类号: H01P11/00;H01P3/10
代理公司: 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 代理人: 司立彬
地址: 100049 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 liga 技术 丝光 胶片 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种LIGA技术的埋丝光刻胶片及其制备方法,其步骤包括:1)选取两片PMMA光刻胶片和一有机丝;2)将该有机丝放在两片PMMA光刻胶片之间;3)将两所述PMMA光刻胶片相对的两面融合在一起包裹该有机丝,得到埋丝光刻胶片。本发明提供了一种全新的埋丝方法,与传统埋丝方法截然不同,而且埋丝位置易于调控且效率高,埋丝光刻胶片的成品率高。

技术领域

本发明涉及一种光刻胶制备方法,尤其涉及一种LIGA技术的埋丝光刻胶片及其制备方法。

背景技术

LIGA技术是德国人发明的,该技术包括同步辐射X射线光刻、电铸和塑铸三个主要工艺环节。同步辐射X射线光刻获得光刻胶的塑料结构,然后利用电铸技术将这一光刻胶的塑料结构转换成所需要的最终金属结构元件,或者电铸成金属注塑模具,塑铸工艺利用电铸得到的金属注塑模具进行塑料结构元件的制造。PMMA材料是同步辐射X射线光刻技术最常规的光刻胶。PMMA光刻胶通常涂在钛片等基片表面上,凝固后形成所需要厚度的PMMA光刻胶膜。PMMA光刻胶也可以压制成一定厚度的薄片,即PMMA光刻胶片。这种PMMA光刻胶片是LIGA技术最常用的曝光衬底,厚度可精确控制、并且厚度均匀,可以从市场上直接购买。

在电子微波器件结构中,经常需要在微结构中预留电子通道,因此在电子微波器件微结构的制造的过程中,需要在曝光衬底内部预埋有机丝结构作为器件的电子通道结构使用。常用的埋丝方法是在硅片表面摊涂液体SU8光刻胶,将丝预留在SU8光刻胶中,待光刻胶前烘凝固后,制备得到有埋丝的SU8胶衬底,但SU8胶常用在紫外曝光技术。在LIGA技术中,对于PMMA光刻胶片,还未见到相关的埋丝技术报道。

发明内容

针对如何在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光刻胶片中实现埋丝的问题,本发明的目的在于提供一种LIGA技术的埋丝光刻胶片及其制备方法。

本发明提出了一种利用有机丝制备LIGA技术所用的PMMA光刻胶片方法,该方法利用有机丝埋在PMMA光刻胶片内。

本发明的技术方案为:

一种LIGA技术的埋丝光刻胶片制备方法,其步骤包括:

1)选取两片PMMA光刻胶片和一有机丝;

2)将该有机丝放在两片PMMA光刻胶片之间;

3)将两所述PMMA光刻胶片相对的两面融合在一起包裹该有机丝,得到埋丝光刻胶片。

进一步的,所述有机丝的直径为100~800微米;根据所述有机丝在埋丝光刻胶片的位置确定所选所述PMMA光刻胶片的厚度。

进一步的,所述PMMA光刻胶片的厚度范围为0.2~2毫米。

进一步的,所述有机丝为有机鱼线。

进一步的,将两所述PMMA光刻胶片相对的两面融合在一起包裹该有机丝的方法为:

31)将步骤2)处理后的有机丝和PMMA光刻胶片水平放置在加热设备内;

32)在该有机丝两端施加拉力或重物将该有机丝拉紧并固定在设定位置;

33)对所述PMMA光刻胶片施加压力,使得两片所述PMMA光刻胶片相对的两面接触紧密;

34)开启所述加热设备进行加热,使两片所述PMMA光刻胶片相对的两面融合在一起包裹该有机丝。

进一步的,对所述PMMA光刻胶片施加压力的方法为:在位于上面的PMMA光刻胶片上放上玻璃盖板,并在玻璃盖板上放置重物或使用压力机,压强为0.5~10公斤/厘米2

进一步的,所述加热设备为为烘箱;将烘箱升温,温度在所述PMMA光刻胶片的软化点附近,温度范围110℃~180℃,加热时间范围8~12小时。

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