[发明专利]一种容性耦合结构和介质滤波器在审

专利信息
申请号: 202010150938.7 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN111370818A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 龙志勇 申请(专利权)人: 广东国华新材料科技股份有限公司
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01P11/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 黄忠
地址: 526020 广东省肇庆市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 耦合 结构 介质 滤波器
【权利要求书】:

1.一种容性耦合结构,其特征在于,包括:开设于介质滤波器顶面上的第一盲孔和第二盲孔;

所述第一盲孔和所述第二盲孔连接且呈T型分布;

所述第一盲孔的深度和所述第二盲孔的深度不相同。

2.根据权利要求1所述的容性耦合结构,其特征在于,所述滤波器顶面的中心为第一中心,所述第一盲孔的中心为第二中心,所述第二盲孔的中心为第三中心;

所述第二中心和所述第一中心之间的距离小于所述第三中心和所述第一中心之间的距离;

所述第一盲孔为T型的竖直部。

3.根据权利要求2所述的容性耦合结构,其特征在于,所述第一盲孔的深度小于所述第二盲孔的深度。

4.根据权利要求2所述的容性耦合结构,其特征在于,所述第一盲孔的深度大于所述第二盲孔的深度。

5.根据权利要求1所述的容性耦合结构,其特征在于,所述第一盲孔的形状为规则形状。

6.根据权利要求5所述的容性耦合结构,其特征在于,所述第一盲孔的形状为矩形。

7.根据权利要求1所述的容性耦合结构,其特征在于,所述第二盲孔的形状为规则形状。

8.根据权利要求7所述的容性耦合结构,其特征在于,所述第二盲孔的形状为矩形。

9.一种介质滤波器,其特征在于,包括如权利要求1至8中任一项所述的容性耦合结构。

10.根据权利要求9所述的介质滤波器,其特征在于,所述介质滤波器的谐振腔的数量为4个;

4个所述谐振腔呈矩形的四个顶点分布。

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