[发明专利]一种容性耦合结构和介质滤波器

说明书

本申请公开了一种容性耦合结构和介质滤波器，其中容性耦合结构包括：开设于介质滤波器顶面上的第一盲孔和第二盲孔；第一盲孔和第二盲孔连接且呈T型分布；第一盲孔的深度和第二盲孔的深度不相同。现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

技术领域

本申请涉及通信技术领域，尤其涉及一种容性耦合结构和介质滤波器。

背景技术

随着通信技术的发展，尤其是5G时代的到来，对通信系统架构提出了更高的要求，系统模块要做到高度集成化、小型化等，介质滤波器因具有低损耗、峰值功率大、小型化等特点，在5G通信设备中具有广泛的应用前景。

为了提高介质滤波器的性能，通常采用耦合结构，其中容性耦合为常用的耦合结构。现有的容性耦合方式为图案耦合，通过在两谐振腔之间加图案开窗，图案开在腔的边缘位置，通过改变图案大小即两腔之间的窗口大小及到边缘的距离来调节耦合，这种方式虽然结构灵活，但是加工复杂。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种容性耦合结构和介质滤波器，解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

本申请第一方面提供了一种介质滤波器，包括：开设于介质滤波器顶面上的第一盲孔和第二盲孔；

所述第一盲孔和所述第二盲孔连接且呈T型分布；

所述第一盲孔的第一深度和所述第二盲孔的第二深度不相同

可选地，

所述滤波器顶面的中心为第一中心，所述第一盲孔的中心为第二中心，所述第二盲孔的中心为第三中心；

所述第二中心和所述第一中心之间的距离小于所述第三中心和所述第一中心之间的距离；

所述第一盲孔为T型的竖直部。

可选地，

所述第一盲孔的深度小于所述第二盲孔的深度。

可选地，

所述第一盲孔的深度大于所述第二盲孔的深度。

可选地，

所述第一盲孔的形状为规则形状。

可选地，

所述第一盲孔的形状为矩形。

可选地，

所述第二盲孔的形状为规则形状。

可选地，

所述第二盲孔的形状为矩形。

本申请第二方面提供了一种介质滤波器，包括如第一方面所述的容性耦合结构。

可选地，

所述介质滤波器的谐振腔的数量为4个；

4个所述谐振腔呈矩形的四个顶点分布。

可选地，

所述容性耦合结构的数量为1个；

所述容性耦合结构设置于所述矩形的边的中点处。

从以上技术方案可以看出，本申请具有以下优点：