[发明专利]光学处理设备

说明书

本公开涉及一种光学处理设备，所述光学处理设备包括：腔室，平台设置在所述腔室中以保持基底；支撑件，位于所述腔室下方；腔室窗口，连接到所述支撑件并允许光穿过所述腔室窗口；以及缓冲部，连接到所述腔室的下部并连接到所述腔室窗口。在所述缓冲部中限定的通路与所述腔室窗口和第一开口重叠，所述第一开口限定在所述腔室的所述下部中。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年5月10日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0054687号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部内容通过引用被包含于此。

技术领域

本发明构思涉及光学处理设备，更具体地，涉及无论腔室的变形如何均为基底正常地提供光的光学处理设备。

背景技术

通常，显示装置包括包含多个像素的显示面板和驱动所述像素的驱动器芯片。驱动器芯片生成驱动信号，所述驱动信号驱动所述像素以显示图像。显示面板包括位于基底上的连接线和连接到连接线的驱动器件，并且驱动器件可以耦接到所述像素。

可以执行曝光工艺以在基底上形成连接线。例如，可以在基底上设置金属层，并且可以在金属层上放置光致抗蚀剂层。当执行曝光工艺时，可以在与将要形成连接线的外围区域重叠的光致抗蚀剂层上照射光。可以在基底上设置掩模，所述掩模具有与将要形成连接线的外围区域重叠的开口。基底可以通过掩模的开口接收光。光可以是激光束。

光致抗蚀剂层的其上照射光的部分可以被去除，并且可以使用剩余的光致抗蚀剂层作为掩模以去除在将要形成连接线的区域周围的金属层，因而可以形成连接线。曝光工艺可以被定义为用于形成显示面板的工艺之一。

发明内容

本发明构思的一些示例实施例提供无论腔室的变形如何均为基底正常地提供光的光学处理设备。

根据本发明构思的一些示例实施例，光学处理设备可以包括：腔室，平台设置在所述腔室中以保持基底；支撑件，位于所述腔室下方；腔室窗口，连接到所述支撑件并允许光穿过所述腔室窗口；以及缓冲部，连接到所述腔室的下部并连接到所述腔室窗口。在所述缓冲部中限定的通路可以与所述腔室窗口和第一开口重叠，所述第一开口限定在所述腔室的所述下部中。

根据本发明构思的一些示例实施例，所述支撑件可以包括位于所述腔室下方的第一支撑件，并且所述腔室窗口可以连接到所述第一支撑件。

根据本发明构思的一些示例实施例，所述腔室窗口可以包括：窗口，与所述第一开口重叠；以及窗口框架，连接到所述窗口的边缘。

根据本发明构思的一些示例实施例，所述缓冲部可以包括：第一连接件，设置在所述窗口框架上并耦接到所述窗口框架，所述第一连接件限定与所述窗口重叠的第一通路；第二连接件，耦接到所述腔室的所述下部，所述第二连接件限定与所述第一开口重叠的第二通路；以及波纹管，在所述第一连接件和所述第二连接件之间，所述波纹管限定与所述第一通路和所述第二通路重叠的第三通路。

根据本发明构思的一些示例实施例，所述窗口框架可以设置在第二开口中并围绕所述窗口，所述第二开口限定在所述第一支撑件中。

根据本发明构思的一些示例实施例，所述窗口的所述边缘可以设置在所述第一连接件和所述窗口框架之间并插入到插入槽中，所述插入槽限定在所述第一连接件的内侧表面上。

根据本发明构思的一些示例实施例，第二开口可以限定在所述第一支撑件中，具有环形形状的所述窗口框架可以设置在所述第一支撑件的一部分上，所述第一支撑件的所述一部分与所述第二开口相邻，并且所述窗口的所述边缘可以设置在所述窗口框架和所述第一支撑件之间并插入到插入槽中，所述插入槽限定在所述窗口框架的内侧表面上。

根据本发明构思的一些示例实施例，所述波纹管可以是垂直地可伸缩的。