[发明专利]一种荧光硅量子点及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种荧光硅量子点的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

步骤1、称取还原剂以及锌盐加入去离子水中使其完全溶解；向上述溶液中加入硅源化合物，充分搅拌至澄清得到反应液；

步骤2、将反应液转入反应釜中以140～220℃的温度加热反应2～24h，冷却到室温得到棕黄色溶液；

步骤3、加入乙醇得到沉淀，干燥并碾磨后得到荧光硅量子点粉末；

所述硅源化合物包括N-[3-(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺；所述还原剂包括柠檬酸钠；

所述还原剂、锌盐、去离子水、硅源化合物的加入比例为0.05mmol～10mmol：0.1mmol～3mmol：2～20mL：0.1～2mL。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的锌盐包括氯化锌、硝酸锌、乙酸锌、硫酸锌或它们的水合物中的至少一种。

3.如权利要求1所述的荧光硅量子点的制备方法，其特征在于，所述步骤3加入乙醇的体积为步骤2所得棕黄色溶液体积的1～10倍；所述乙醇的浓度为75％～95％。

4.一种如权利要求1-3任一所述方法制备得到的荧光硅量子点。

5.权利要求4所述的荧光硅量子点在作为用于指纹显现材料上的用途。

6.如权利要求5所述的应用，其特征在于，将指纹按在不同基板上，将所述荧光硅量子点粉末均匀撒在所述基板的指纹上，吹去多余粉末，用365±2nm激发波长的紫外灯照射即显现指纹。