[发明专利]磁头的评价方法以及磁头的评价装置有效
申请号: | 202010160041.2 | 申请日: | 2020-03-10 |
公开(公告)号: | CN112151075B | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 首藤浩文;成田直幸;永泽鹤美;高岸雅幸;前田知幸 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
主分类号: | G11B5/31 | 分类号: | G11B5/31 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 万利军;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁头 评价 方法 以及 装置 | ||
提供能够评价振荡频率的磁头的评价方法以及磁头的评价装置。根据一个实施方式,磁头的评价方法包括:实施向包括电流路径的磁头施加了交流磁场时的所述电流路径的电特性的测定,该电流路径包括振荡器。所述评价方法包括:基于所述电特性来实施关于所述振荡器的振荡频率的频率值的导出。
本申请以日本专利申请2019-118143(申请日2019年6月26日)为基础,根据该申请来享受优先权。本申请通过参照该申请而包含该申请的全部内容。
技术领域
本发明的实施方式涉及磁头的评价方法以及磁头的评价装置。
背景技术
希望对设置于磁头的振荡器的振荡频率进行评价。
发明内容
一个实施方式提供能够评价振荡频率的磁头的评价方法以及磁头的评价装置。
用于解决技术课题的技术方案
根据一个实施方式,磁头的评价方法包括:实施向包括电流路径的磁头施加了交流磁场时的所述电流路径的电特性的测定,该电流路径包括振荡器。所述评价方法包括:基于所述电特性来实施关于所述振荡器的振荡频率的频率值的导出。
根据上述构成的磁头的评价方法以及磁头的评价装置,能够提供能评价振荡频率的磁头的评价方法以及磁头的评价装置。
附图说明
图1是例示第1实施方式涉及的磁头的评价装置的示意图。
图2是例示第2实施方式涉及的磁头的评价方法的流程图。
图3是例示第2实施方式涉及的磁头的评价方法中的特性的坐标图。
图4是例示第2实施方式涉及的磁头的评价方法的流程图。
图5是例示实施方式涉及的磁头的示意性的立体图。
图6是例示实施方式涉及的磁头的示意性的立体图。
图7的(a)和图7的(b)是例示实施方式涉及的磁头的示意性的立体图。
附图标记说明
10振荡器;10a、10b第1磁性层、第2磁性层;10c非磁性层;41测定电路;42电流供给电路;43a第1导电体;43b第2导电体;46光学显微镜;47保持部;48处理器;48s信号;60记录部;60c线圈;60p磁极;60pa布线;60s屏蔽件;60sa布线;70再现部;71检测部;72a、72b第1屏蔽件、第2屏蔽件;80磁记录介质;81记录层;82磁记录介质基板;83磁化;85介质移动方向;ΔR电特性;110磁头;154悬架;155臂;157轴承部;158头万向架组件;159头滑块;159A空气流入侧;159B空气流出侧;160头堆叠组件;161支承框架;162线圈;210评价装置;Hac交流磁场;N1值;Nm次数;R1~R5第1值~第5值;T1、T2第1端子、第2端子;cp电流路径;f1~f5第1频率~第5频率;fa频率;fs1、fs2频率;fx频率;fz变化值;t1值;tm期间;w1宽度
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的各实施方式进行说明。
附图是示意性或者概念性的图,各部分的厚度与宽度的关系、部分间的大小的比率等并不一定限于与现实的情况相同。即使是在表示相同的部分的情况下,有时也根据附图以彼此的尺寸、比率不同的方式来表示。
在本申请说明书和各图中,对与关于前面出现过的附图已经描述过的要素同样的要素标记同一附图标记,适当省略详细的说明。
(第1实施方式)
图1是例示第1实施方式涉及的磁头的评价装置的示意图。
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