[发明专利]一种晶圆的切割方法有效

专利信息
申请号: 202010166331.8 申请日: 2020-03-11
公开(公告)号: CN111446161B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 严立巍;李景贤;陈政勋 申请(专利权)人: 绍兴同芯成集成电路有限公司
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;H01L21/78
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 王依
地址: 312000 浙江省绍兴市越城区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 切割 方法
【说明书】:

发明公开一种晶圆的切割方法,切割方法包括以下步骤:正面切割、一次固定、减薄、粘合剂去除、二次固定、脱离玻璃载板和溶剂清洗。本发明通过正面切割、一次固定、减薄、粘合剂去除、二次固定、脱离玻璃载板和溶剂清洗实现对晶圆进行两次切割获得晶粒,取代传统的一次性切割的方式,减少切割对晶粒的损坏,实现对晶圆进行两次切割获得晶粒减少切割对晶粒的损坏,提高晶粒的成品合格率,缩短了单个合格晶粒的切割时间,有利于控制晶粒的生产成本。

技术领域

本发明涉及一种切割方法,具体是一种晶圆的切割方法。

背景技术

晶圆是微电子器件最主要的原物料之一,晶圆是由Ⅲ和Ⅴ族复合半导体物质构成。在生产的过程中,晶圆上包含阵列分布的晶粒,通过切割的方式将获得单个的晶粒,传统的晶粒切割采用一次性切割的方法,在切割的过程中,薄晶圆在切割的过程中极易损坏晶粒,影响晶粒的成品合格率,增加了晶粒的生产成本。

发明内容

本发明的目的在于提供一种晶圆的切割方法,本发明通过正面切割、一次固定、减薄、粘合剂去除、二次固定、脱离玻璃载板和溶剂清洗实现对晶圆进行两次切割获得晶粒,取代传统的一次性切割的方式,减少切割对晶粒的损坏,实现对晶圆进行两次切割获得晶粒减少切割对晶粒的损坏,提高晶粒的成品合格率,缩短了单个合格晶粒的切割时间,有利于控制晶粒的生产成本。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现:

1、一种晶圆的切割方法,切割方法包括以下步骤:

S1:正面切割

对晶圆进行切割。

S2:一次固定

采用粘合剂将晶圆切割的正面键合在玻璃载板上。

S3:减薄

对切割后的背面进行减薄,减薄至X处。

S4:粘合剂去除

采用氧气电浆侧蚀刻相邻晶粒之间的粘合剂。

S5:二次固定

将减薄面固定在UV膜框上,UV膜框上设有UV型胶膜。

S6:脱离玻璃载板

采用镭射/热分解的方式进行解键合,将晶圆与玻璃载板上脱离,此时晶粒粘合在UV膜框上。

S7:溶剂清洗

将粘合剂从晶粒上剥离。

进一步的,所述切割的方法为金刚石切割。

进一步的,所述切割的方法为激光切割。

进一步的,所述切割的方法为等离子切割。

进一步的,所述晶粒切割时从晶粒的正面进行切割,切割至X处,X为预计最后晶圆减薄完成后的厚度。

进一步的,所述一次固定的粘合剂通过UV键合将晶圆和玻璃载板粘合在一起,温度要求为50-200℃,使用的时间为30分钟以下。

进一步的,所述一次固定的粘合剂通过加热键合将晶圆和玻璃载板粘合在一起,温度要求为150-300℃,使用的时间为30分钟以下。

进一步的,所述减薄采用的方法为蚀刻。

进一步的,所述减薄采用的方法为研磨。

进一步的,所述减薄后相邻的晶粒之间不接触。

本发明的有益效果:

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