[发明专利]一种晶圆的切割方法有效
申请号: | 202010166331.8 | 申请日: | 2020-03-11 |
公开(公告)号: | CN111446161B | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 严立巍;李景贤;陈政勋 | 申请(专利权)人: | 绍兴同芯成集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;H01L21/78 |
代理公司: | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 王依 |
地址: | 312000 浙江省绍兴市越城区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 切割 方法 | ||
本发明公开一种晶圆的切割方法,切割方法包括以下步骤:正面切割、一次固定、减薄、粘合剂去除、二次固定、脱离玻璃载板和溶剂清洗。本发明通过正面切割、一次固定、减薄、粘合剂去除、二次固定、脱离玻璃载板和溶剂清洗实现对晶圆进行两次切割获得晶粒,取代传统的一次性切割的方式,减少切割对晶粒的损坏,实现对晶圆进行两次切割获得晶粒减少切割对晶粒的损坏,提高晶粒的成品合格率,缩短了单个合格晶粒的切割时间,有利于控制晶粒的生产成本。
技术领域
本发明涉及一种切割方法,具体是一种晶圆的切割方法。
背景技术
晶圆是微电子器件最主要的原物料之一,晶圆是由Ⅲ和Ⅴ族复合半导体物质构成。在生产的过程中,晶圆上包含阵列分布的晶粒,通过切割的方式将获得单个的晶粒,传统的晶粒切割采用一次性切割的方法,在切割的过程中,薄晶圆在切割的过程中极易损坏晶粒,影响晶粒的成品合格率,增加了晶粒的生产成本。
发明内容
本发明的目的在于提供一种晶圆的切割方法,本发明通过正面切割、一次固定、减薄、粘合剂去除、二次固定、脱离玻璃载板和溶剂清洗实现对晶圆进行两次切割获得晶粒,取代传统的一次性切割的方式,减少切割对晶粒的损坏,实现对晶圆进行两次切割获得晶粒减少切割对晶粒的损坏,提高晶粒的成品合格率,缩短了单个合格晶粒的切割时间,有利于控制晶粒的生产成本。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
1、一种晶圆的切割方法,切割方法包括以下步骤:
S1:正面切割
对晶圆进行切割。
S2:一次固定
采用粘合剂将晶圆切割的正面键合在玻璃载板上。
S3:减薄
对切割后的背面进行减薄,减薄至X处。
S4:粘合剂去除
采用氧气电浆侧蚀刻相邻晶粒之间的粘合剂。
S5:二次固定
将减薄面固定在UV膜框上,UV膜框上设有UV型胶膜。
S6:脱离玻璃载板
采用镭射/热分解的方式进行解键合,将晶圆与玻璃载板上脱离,此时晶粒粘合在UV膜框上。
S7:溶剂清洗
将粘合剂从晶粒上剥离。
进一步的,所述切割的方法为金刚石切割。
进一步的,所述切割的方法为激光切割。
进一步的,所述切割的方法为等离子切割。
进一步的,所述晶粒切割时从晶粒的正面进行切割,切割至X处,X为预计最后晶圆减薄完成后的厚度。
进一步的,所述一次固定的粘合剂通过UV键合将晶圆和玻璃载板粘合在一起,温度要求为50-200℃,使用的时间为30分钟以下。
进一步的,所述一次固定的粘合剂通过加热键合将晶圆和玻璃载板粘合在一起,温度要求为150-300℃,使用的时间为30分钟以下。
进一步的,所述减薄采用的方法为蚀刻。
进一步的,所述减薄采用的方法为研磨。
进一步的,所述减薄后相邻的晶粒之间不接触。
本发明的有益效果:
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