[发明专利]衬底材料、衬底材料的制备方法及发光二极管器件

说明书

本申请提供了一种衬底材料、衬底材料的制备方法及发光二极管器件，通过采用第一反应物和第二反应物进行反应生成第一中间产物，对所述第一中间产物进行第一热处理和第二热处理反应生成衬底材料，通过第一反应物和第二反应物引入二胺类衍生物为主链结构，从而提高了衬底材料的耐热性、机械性和光透过性，进而实现了一种耐热性高、机械性强和光透过性高的衬底材料、衬底材料的制备方法及发光二极管器件。

技术领域

本申请涉及显示面板领域，具体涉及一种衬底材料、衬底材料的制备方法及发光二极管器件。

背景技术

目前，显示面板的柔性衬底膜层多采用传统的衬底材料制备，但是，传统的衬底材料制备柔性衬底膜层的透光性差、机械性能低及耐热性差，因此，有必要提供一种透过率高、机械性能高和耐热性高的衬底材料、衬底材料的制备方法及发光二极管器件。

发明内容

本申请提供一种衬底材料、衬底材料的制备方法及发光二极管器件，以提供一种透过率高、机械性能高和耐热性高的衬底材料、衬底材料的制备方法及发光二极管器件。

本申请提供一种衬底材料，所述衬底材料的结构式为[R₁-R₂]_n，其中，n＝2000-3500，所述R₁基团的结构式为中的一种，所述R₂基团的结构式包括和中的一种。

本申请提供一种衬底材料的制备方法，所述衬底材料的制备方法包括：

提供第一反应物和第二反应物，所述第一反应物和所述第二反应物进行反应生成第一中间产物，其中，所述第一中间产物的结构式为[R₁’-R₂’]_m，其中，m＝300-900，所述第一反应物为包括R₁’基团的化合物，所述R₁’基团的结构式包括中的一种，所述第二反应物为包括R₂’基团的化合物，所述R₂’基团的结构式包括中的一种；

对所述第一中间产物进行第一热处理形成衬底材料前驱体；

对所述衬底材料前驱体进行第二热处理形成衬底材料，所述衬底材料的结构式为其中，n＝2000-3500，所述R₁基团的结构式包括中的一种，所述R₂基团的结构式包括中的一种。

本申请所提供的衬底材料的制备方法中，所述在所述第一反应物和所述第二反应物进行反应生成所述第一中间产物中，所述第一反应物的摩尔量和所述第二反应物的摩尔量的对应关系为1摩尔-1.5摩尔的所述第一反应物对应1.2摩尔-2.5摩尔的所述第二反应物。

本申请所提供的衬底材料的制备方法中，所述第一反应物在第一溶剂中溶解后与所述第二反应物进行反应生成第一中间产物，所述第一溶剂包括N-甲基吡咯烷酮、氯仿、二甲基亚砜或N，N-二甲基乙酰胺中的一种或几种的组合。

本申请所提供的衬底材料的制备方法中，所述对所述第一中间产物进行第一热处理形成衬底材料前驱体的步骤中，包括：

所述第一中间产物经过第一阶段热处理形成第一阶段中间产物；

对所述第一阶段中间产物进行第二阶段热处理形成第二阶段中间产物；

对所述第二阶段中间产物进行过滤处理形成衬底材料前驱体。

本申请所提供的衬底材料的制备方法中，所述对所述衬底材料前驱体进行第二热处理形成衬底材料，所述衬底材料的结构式为其中，n＝2000-3500，所述R₁基团的结构式包括

中的一种，所述R₂基团的结构式包括中的一种的步骤，包括：

对所述衬底材料前驱体进行第三阶段热处理形成第三阶段中间产物；