[发明专利]一种半离线式等离子体处理设备及其使用方法

权利要求书

1.一种半离线式等离子体处理设备，其特征在于，包括输送线机架（1）、传输组件（2）、真空腔（3）、运动组件（4）、真空吸盘组件（5）及支撑架（6）；

所述传输组件（2）设置在所述输送线机架（1）上方，所述传输组件（2）用于传输工件托盘（8）；

所述运动组件（4）设置在所述支撑架（6）上方，所述运动组件（4）用于驱动所述真空吸盘组件（5）的上下、左右移动；

所述真空吸盘组件（5）包括托架（501）、吸盘横支架（502）及真空吸嘴（503），所述吸盘横支架（502）按一定间隔均匀分布在所述托架（501）下端，所述真空吸嘴（503）固定在所述吸盘横支架（502）上；

所述真空腔（3）包括腔体（301）和上盖（302），所述腔体（301）和上盖（302）通过连杆固定连接；

所述连杆包括长连杆（303）和短连杆（304），所述长连杆（303）、短连杆（304）的两端分别固定在所述腔体（301）、上盖（302）的一侧；

所述腔体（301）的底部设置有绝缘平板，所述绝缘平板上方设置有正极板（311）；所述腔体（301）的四周设置有绝缘条（312）；

所述正极板（311）上设置有均匀分布的托盘隔条（313），所述托盘隔条（313）用于放置工件托盘（8）；

所述传输组件（2）包括传输架（201）、传输皮带（202）、主动轴、从动轴、传输电机（203），所述传输架（201）上设置有凹槽，所述主动轴、从动轴分别设置在所述凹槽的两端，所述传输皮带（202）设置在所述凹槽内，所述传输电机（203）驱动所述主动轴转动；

所述传输皮带（202）的一端设置有阻挡条（204），所述阻挡条（204）靠近所述凹槽的边缘，所述阻挡条（204）用于限定所述工件托盘（8）传输的位置；

所述输送线机架（1）包括第一输送线机架（101）和第二输送线机架（102），所述第一输送线机架（101）和第二输送线机架（102）分别设置在所述真空腔（3）的两侧；

所述传输组件（2）包括第一传输组件（2）和第二传输组件（2），所述第一传输组件（2）和第二传输组件（2）分别与所述第一输送线机架（101）和第二输送线机架（102）相对应。

2.根据权利要求1所述的半离线式等离子体处理设备，其特征在于，所述运动组件（4）包括X轴动力组件（401）和Z轴动力组件（402），所述X轴动力组件（401）用于实现所述真空吸盘组件（5）的左右移动；所述Z轴动力组件（402）用于实现所述真空吸盘组件（5）的上下移动。

3.根据权利要求2所述的半离线式等离子体处理设备，其特征在于，所述X轴动力组件（401）包括第一驱动电机（411）、X轴导轨架（412）、X轴丝杆、X轴丝杆螺母，所述X轴丝杆设置在所述X轴导轨架（412）内，所述X轴丝杆与X轴丝杆螺母相配合。

4.根据权利要求3所述的半离线式等离子体处理设备，其特征在于，所述Z轴动力组件（402）包括第二驱动电机（421）、Z轴导轨架（422）、Z轴丝杆、Z轴丝杆螺母；

所述Z轴导轨架（422）的一侧设置有与所述X轴导轨架（412）相对应的第一定位块（413），另一侧设置有移动架（423），所述移动架（423）下方固定所述真空吸盘组件（5），所述移动架（423）的一侧设置有与所述Z轴导轨架（422）相对应的第二定位块（424）。

5.根据权利要求1-4任一项所述半离线式等离子体处理设备的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、传输电机（203）开启，工件托盘（8）经第一传输组件（2）传输，在传输皮带（202）上传送；

S2、真空腔（3）打开，运动组件（4）带动真空吸盘组件（5）上下、左右移动，同时，真空吸盘组件（5）吸住工件托盘（8），并将其放置在腔体（301）内，真空吸盘组件（5）归位，上盖（302）关闭，抽真空进行等离子体处理；

S3、处理完成后，真空腔（3）打开，运动组件（4）带动真空吸盘组件（5）移动，真空吸盘组件（5）吸住腔体（301）内的工件托盘（8），并将其放置到第二传输组件（2）上传输，进入下一个工序；

S4、重复步骤S2-S3。