[发明专利]一种半离线式等离子体处理设备及其使用方法有效
申请号: | 202010175882.0 | 申请日: | 2020-03-13 |
公开(公告)号: | CN111348431B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 沈文凯;檀靓;刘鑫培;王红卫 | 申请(专利权)人: | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司 |
主分类号: | B65G47/91 | 分类号: | B65G47/91 |
代理公司: | 苏州科洲知识产权代理事务所(普通合伙) 32435 | 代理人: | 王悦 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离线 等离子体 处理 设备 及其 使用方法 | ||
本发明涉及一种半离线式等离子体处理设备及使用方法,该处理设备包括输送线机架、传输组件、真空腔、运动组件、真空吸盘组件及支撑架;所述传输组件设置在所述输送线机架上方,所述传输组件用于传输工件托盘;所述动力组件设置在所述支撑架上方,所述动力组件用于驱动所述真空吸盘组件的上下、左右移动;所述真空吸盘组件用于抓放工件托盘;该使用方法操作简单,使用方便,适用性强;本发明解决现有等离子体处理设备多为固定机箱结构,灵活性差,不能适应产品流水线式作业生产的缺陷,实现了流水线等离子体处理,同时,满足对产品加工流水线设备改造的需求,提高了等离子体处理效率,提高了设备适用性和灵活性。
技术领域
本发明涉及等离子体处理设备技术领域,具体地说是一种半离线式等离子体处理设备及其使用方法。
背景技术
等离子体是不同于固体、液体和气体,是物质存在的第四态,等离子体又叫做电浆,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。
等离子体技术在众多领域都具有十分显著的优点,在对材料表面进行改性处理方面,具有成本低、无废弃物、无污染等优点;在杀菌消毒方面具有安全性高、无药物残留、灭菌时间短、无环境污染等优点;在对各类污染物(废气、废水)处理方面具有能耗低、效率高、处理流程短、适用范围广等优点。
现有生产加工设备多为流水线式的在线加工,如果需要对现有流水线加工的产品进行等离子体处理,则需要对流水线进行改造,一方面,设备改造成本高,另一方面,需要额外的设备放置场地。针对产品加工流水线,企业更需要可以灵活调整工位的等离子体处理设备,避免对现有流水线进行改造,而现有等离子体处理设备多为固定机箱结构,灵活性差,不能适应流水线式的作业生产。
如中国专利CN206225317U公开了一种等离子体处理的装置,包括:第一等离子体源;第一平面电极;气体分配设备;等离子体阻挡筛网;以及工件卡盘。所述第一等离子体源产生第一等离子体产物,所述第一等离子体产物从所述第一等离子体源离开,穿过所述第一平面电极中的第一孔隙。所述第一等离子体产物继续穿过所述气体分配设备中的第二孔隙。所述等离子体阻挡筛网包括具有第四孔隙的第三板,并且面对所述气体分配设备,使得所述第一等离子体产物穿过所述多个第四孔隙。所述工件卡盘面对所述等离子体阻挡筛网的第二侧,从而在所述等离子体阻挡筛网与所述工件卡盘之间限定工艺腔室。中国专利CN206140648U公开了一种等离子体处理设备,包括低温等离子体电极基台、低温等离子体电源和机体,所述机体由型材框架拼装组成,低温等离子体电极基台安装在带式传送平台与辊式传送平台之间,带式传送平台安装在机体前端固定于型材框架上,辊式传送平台安装在机体尾端固定于型材框架上,微量施胶装置安装在型材框架上,位置处于低温等离子体电极基台后端,在辊式传送平台上方,还设有冷却风机位于机体内部,位于低温等离子体基台下方,机体外还设有上集风金属罩和下集风金属罩,还设有动力装置,用于驱动带式传送平台和辊式传送平台上传动带的运动。上述等离子体处理设备不适用于流水线式加工产品等离子体处理的需求,设备安装使用的灵活性有限。
因此,如何提供一种半离线式等离子体处理设备,以实现流水线等离子体处理,同时,满足对产品加工流水线设备改造的需求,提高等离子体处理效率,提高设备适用性和灵活性,是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此,本申请的目的在于提供一种半离线式等离子体处理设备及其使用方法,实现流水线等离子体处理,同时,满足对产品加工流水线设备改造的需求,提高等离子体处理效率,提高设备适用性和灵活性。
为了达到上述目的,本申请提供如下技术方案。
采用的第一种技术方案:一种半离线式等离子体处理设备,包括输送线机架、传输组件、真空腔、运动组件、真空吸盘组件及支撑架;
所述传输组件设置在所述输送线机架上方,所述传输组件用于传输工件托盘;
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