[发明专利]曝光机及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光机，其特征在于，包括：

检测模块，所述检测模块用于检测掩膜板表面是否存在附着物；

清洁装置，所述清洁装置用于对所述掩膜板表面的所述附着物进行清洁；

曝光模块，所述曝光模块用于对检测到不存在所述附着物的所述掩膜板进行曝光作业。

2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述清洁装置包括壳体和设置在所述壳体上的支撑架，所述支撑架上设置有用于对所述掩膜板进行清洁的气体喷头；

所述气体喷头用于朝向所述掩膜板喷气以进行清洁。

3.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述清洁装置对所述掩膜板进行清洁时，所述气体喷头的喷气方向与所述掩膜板的夹角大于5°且小于85°。

4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，所述夹角为45°。

5.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述清洁装置还包括与所述气体喷头相连的气流控制装置，所述气流控制装置用于控制所述气体喷头所喷出的气流的流速。

6.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述气体喷头的数量为多个，多个所述气体喷头相对设置在所述支撑架上；

所述清洁装置对所述掩膜板进行清洁时，多个所述气体喷头分别朝向所述掩膜板的两个相对的表面进行吹气。

7.根据权利要求6所述的曝光机，其特征在于，所述气体喷头之间的间隔范围为0.5～10mm，所述气体喷头为圆柱状，所述圆柱状气体喷头的底面直径范围为0.5～15mm，所述圆柱状气体喷头的长度范围为0.5～20mm。

8.根据权利要求6所述的曝光机，其特征在于，每个所述气体喷头的喷气方向与所述掩膜板的夹角相同且位于15～25°之间；所述喷气方向上的所述壳体侧面上设置有排气口。

9.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，所述气体喷头所喷出的气流为脉冲气流，所述排气口采用脉冲抽气的方式对所述清洁装置内的气体抽气，所述脉冲气流的脉冲与所述脉冲抽气的脉冲同步或间隔固定时间。

10.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述清洁装置还包括电性检测组件和气体调节组件；

所述电性检测组件用于检测所述附着物的电性种类；

所述气体调节模块用于调节所述气体喷头所喷出的气体的电性种类与所述附着物的电性相反。

11.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述气体的种类为清洁的空气或氮气。

12.一种曝光方法，其特征在于，应用于权利要求1至11中任一项所述的曝光机，包括：

移动掩膜板至检测模块；

对所述掩膜板进行检测，判断所述掩膜板的表面是否存在附着物；

若所述掩膜板的表面不存在附着物，移动所述掩膜板至曝光模块进行曝光作业；

若所述掩膜板的表面存在附着物，经由所述清洁装置对所述掩膜板进行清洁、并再次对所述掩膜板的表面进行检测。