[发明专利]曝光机及曝光方法

说明书

本发明涉及半导体领域，公开了一种曝光机及曝光方法。本发明中，曝光机包括：检测模块，所述检测模块用于检测掩膜板表面是否存在附着物；清洁装置，所述清洁装置用于对所述掩膜板表面的所述附着物进行清洁；曝光模块，所述曝光模块用于对检测到不存在所述附着物的所述掩膜板进行曝光作业。与现有技术相比，本发明实施方式所提供的曝光机及曝光方法具有提升曝光机工作效率的优点。

技术领域

本发明涉及半导体领域，特别涉及曝光机及曝光方法。

背景技术

在光刻技术中，曝光机一般包括光源和掩膜板。掩膜板是一种表面被各种图案覆盖的透明平板，每个图案都包含有不透明和透明的部分，用来阻挡和允许光线通过。光源通过掩膜板可将图案投射到涂有光刻胶的晶片上，从而消除透明部分的光刻胶而保留不透明部分的光刻胶，生成三维的浮雕图案，用以辅助在晶片上刻蚀电路图案。

在实际使用过程中，为了保证光刻图像的完整性和精准性，在使用掩膜板进行光刻前，通常需要对掩膜板的表面进行检测，判断是否存在附着物。因此，现有技术的曝光机中通常设置有检测模块，以避免掩膜板表面的附着物如灰尘、微粒等对光刻精准性和完整性的影响。

然而，本发明的发明人发现，现有技术的曝光机在检测到掩膜板表面存在附着物时，需要卸载掩膜板至曝光机外，并送入专门的清洁装置中进行清洁后再装载进曝光机中进行检测，导致曝光机的工作效率低下，与此同时现有方法中掩膜板的清洁效果还有待优化。

发明内容

本发明实施方式的目的在于提供一种曝光机及曝光方法，提升曝光机的工作效率以及优化掩膜板的清洁效果。

为解决上述技术问题，本发明的实施方式提供了一种曝光机，包括：检测模块，所述检测模块用于检测掩膜板表面是否存在附着物；清洁装置，所述清洁装置用于对所述掩膜板表面的所述附着物进行清洁；曝光模块，所述曝光模块用于对检测到不存在所述附着物的所述掩膜板进行曝光作业。

本发明的实施方式还提供了一种曝光方法，应用于前述的曝光机，包括：移动掩膜板至检测模块；对所述掩膜板进行检测，判断所述掩膜板的表面是否存在附着物；若所述掩膜板的表面不存在附着物，移动所述掩膜板至曝光模块进行曝光作业；若所述掩膜板的表面存在附着物，经由所述清洁装置对所述掩膜板进行清洁、并再次对所述掩膜板的表面进行检测。

本发明实施方式相对于现有技术而言，在曝光机内设置清洁装置，当检测模块检测到掩膜板表面存在附着物，有可能影响掩膜板进行光刻时，通过清洁装置对掩膜板表面进行清洁，从而有效的保证掩膜板进行光刻时的光刻效果。此外，由于清洁装置也设置在光刻机内，当检测到掩膜板表面存在附着物时，可以直接在曝光机内部对掩膜板进行清洁而无需卸载掩膜板，从而有效的提升曝光机的工作效率。

另外，所述清洁装置包括壳体和设置在所述壳体上的支撑架，所述支撑架上设置有用于对所述掩膜板进行清洁的气体喷头；所述气体喷头用于朝向所述掩膜板喷气以进行清洁。通过气体喷头喷气对掩膜板进行清洁，可以有效的减少清洁过程对曝光机内其它零部件的影响。

另外，所述清洁装置对所述掩膜板进行清洁时，所述气体喷头的喷气方向与所述掩膜板的夹角大于5°且小于85°。设置喷气方向与掩膜板的夹角大于5°且小于85°，可以更加有效的将附着物吹落，提升吹扫效率。

另外，所述夹角为45°。

另外，所述清洁装置还包括与所述气体喷头相连的气流控制装置，所述气流控制装置用于控制所述气体喷头所喷出的气流的流速。通过气流控制装置对气流的流速进行控制，可以有效的避免气流过大对掩膜板造成损坏、或气流过小导致无法有效的对掩膜板进行清洁。

另外，所述气体喷头的数量为多个，多个所述气体喷头相对设置在所述支撑架上；所述清洁装置对所述掩膜板进行清洁时，多个所述气体喷头分别朝向所述掩膜板的两个相对的表面进行吹气。多个气体喷头分别朝向掩膜板的两个相对的表面进行吹气，从而更加有效的对掩膜板的表面进行清洁。