[发明专利]一种像素化转光层及其制备方法

说明书

本发明公开了一种像素化转光层及其制备方法，所述方法至少包括：获得含有像素槽的基板；将含有发光材料前驱体的溶液转移到基板的像素槽内，发光材料前驱体原位生成发光材料，得到填充发光材料的基板；在上述基板表面涂覆封装材料，得到像素化转光层。本发明只需将发光材料前驱体直接填入基板像素槽内，封装，即可实现钙钛矿纳米晶的像素化图案制备，省去了后续的打印和封装工序，降低了成本，得到的封装好的图案化钙钛矿纳米晶可以作为彩色转光层，低成本实现了显示器件的彩色化显示。本发明提供了一种新的面向显示的钙钛矿纳米晶图案化技术，无需配制专门的钙钛矿纳米晶墨水，也无需复杂的打印设备。

技术领域

本发明属于光刻/显示技术领域，具体涉及一种像素化转光层及其制备方法。

背景技术

钙钛矿纳米晶被看作是新一代的显示发光材料，具有发光峰窄，成本低等优点，现有显示厂商采取的钙钛矿纳米晶显示集成工艺主要是在单色蓝光或紫光的MicroLED、OLED或LCD上集成钙钛矿纳米晶像素化转光层，通过光的下转换实现单色显示器的彩色化。为了抑制串光，提高显示效果，需要预先使用光刻胶制备出黑色的像素槽，并将钙钛矿纳米晶打印到像素槽里，防止横向光的传播。但是钙钛矿纳米晶材料的喷墨打印技术尚在研发阶段，且显示用喷墨打印设备尚未成熟，导致钙钛矿纳米晶的显示应用迟迟未能普及。因此，若能在制备完像素槽之后将发光材料直接填充进去，实现彩色转光层的制备，将可以极大简化显示器制备工艺，低成本实现钙钛矿纳米材料的图案化。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种像素化转光层及其制备方法，通过将发光材料前驱体填充到带有像素槽的基板中，原位生成发光材料，得到像素化转光层，简化了显示器的制备工艺，降低了发光材料的显示应用的成本。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：

本发明一方面，提出了一种像素化转光层的制备方法，至少包括：

获得含有像素槽的基板；

将含有发光材料前驱体的溶液转移到所述基板的像素槽内，发光材料前驱体原位生成发光材料，得到填充发光材料的基板；

在填充发光材料的基板表面涂覆封装材料，得到像素化转光层。

可选地，所述方法至少包括：

S001、分别获得不同的含有发光材料前驱体的溶液S1、S2……Sn，1≤n＜1000：

含有发光材料前驱体的溶液至少由钙钛矿前驱体，有机溶剂c和聚合物混合而成；

S002、将溶液S1转移到基板的像素槽内，钙钛矿前驱体原位生成钙钛矿纳米晶，得到填充发光材料1的基板，其中，发光材料1中含有钙钛矿纳米晶和聚合物；

S003、在所述填充发光材料1的基板的至少部分表面涂覆封装材料，套刻，对部分像素槽进行封装，并清洗掉未封装像素槽内的发光材料；

S004、重复步骤S002、S003，直到n种发光材料均被封装，得到所述像素化转光层。

可选的，所述制备方法还包括：将含有发光材料前驱体的溶液转移到所述基板的像素槽内之后，进行后处理；

可选地，后处理包括：静置、光照、加热、微波处理中的至少一种。

对含有发光材料前驱体的溶液进行后处理能够改善形成的发光材料的性质。

可选地，钙钛矿前驱体包括物质a和物质b；

物质a选自具有式Ⅰ所示化合物中的任一种；

物质b选自具有式Ⅱ所述化学物中的任一种；

AX式Ⅰ

BX₂式Ⅱ