[发明专利]阵列基板及其制造方法和显示装置在审
申请号: | 202010192614.X | 申请日: | 2020-03-18 |
公开(公告)号: | CN113437086A | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 左文霞;李方泽 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 上海隆天律师事务所 31282 | 代理人: | 范亚红;钟宗 |
地址: | 201506 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:显示区域以及围绕于所述显示区域的非显示区域;
所述显示区域设置有多条扫描线和多条数据线,所述多条扫描线与所述多条数据线交叉排列且相互绝缘;
所述非显示区域设置有多条数据走线和多条扫描走线,所述多条扫描走线与所述多条数据走线相互绝缘,且具有至少一个交叠区域;
其中,与扫描走线交叠设置的数据走线包括第一线段和第二线段,所述第二线段位于数据走线与扫描走线的交叠区域,所述第二线段的一端通过第一跳线结构与所述显示区域的数据线电性连接,所述第二线段的另一端通过第二跳线结构与所述第一线段的其中一端电性连接。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述多条数据走线与所述多条数据线一一对应并电性连接,所述多条扫描走线与所述多条扫描线一一对应并电性连接。
3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述扫描走线与所述扫描线同层设置,所述第一跳线结构、第二跳线结构与所述数据线同层设置。
4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括:扫描驱动电路,所述扫描驱动电路与所述多条扫描走线连接,用于提供扫描驱动信号。
5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板为低温多晶硅阵列基板。
6.一种阵列基板的制造方法,其特征在于,包括:
提供一衬底,并在所述衬底上形成第一绝缘层;
在所述第一绝缘层上形成第一金属层,并图形化所述第一金属层以分别形成扫描线和扫描走线;
在所述扫描线和扫描走线上形成第二绝缘层;
在所述第二绝缘层上形成第二金属层,并图形化所述第二金属层以形成数据走线,所述数据走线包括第一段和第二段,所述第二段设置于所述数据走线与所述扫描走线的交叠区域;
在所述数据走线上形成第三绝缘层,并在所述第三绝缘层中形成接触孔,所述接触孔贯穿所述第三绝缘层并暴露出所述第一段的一端和第二段的两端;以及
在所述第三绝缘层和暴露出的第一段和第二段上形成第三金属层,并图形化所述第三金属层以分别形成第一跳线结构、第二跳线结构和数据线。
7.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述第一金属层和所述第二金属层采用的材料均为钼。
8.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述第三金属层采用的材料为钛铝钛。
9.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求1至5所述的阵列基板。
10.如权利要求9所述的阵列基板的制造方法,其特征在于,所述显示装置为液晶显示装置或者有机发光显示装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司,未经上海和辉光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010192614.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种盖板玻璃及光伏组件
- 下一篇:光周期基因OsNhd1的应用
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的