[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202010197716.0 申请日: 2020-03-19
公开(公告)号: CN111370597B 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 张磊;何源;刘珂 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H10K71/00 分类号: H10K71/00;H10K71/60;H10K50/82;H10K59/12;H10K59/122
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 成亚婷
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一衬底,在所述衬底的一侧形成图案化的第一电极层;

在所述第一电极层的背离所述衬底的表面上形成像素界定层,对所述像素界定层进行曝光;

采用气相沉积工艺在曝光后的所述像素界定层的背离所述衬底的表面上形成钝化薄膜,所述气相沉积工艺的沉积温度低于第一阈值;对所述钝化薄膜进行干法刻蚀,形成钝化层;所述钝化层包括多个第一开口;

对所述像素界定层进行显影,在所述像素界定层的与所述第一开口对应的部分形成第二开口;所述第一开口在所述衬底上的正投影位于对应的所述第二开口在所述衬底上的正投影内,且所述第一开口和所述第二开口构成第二电极隔断槽。

2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,在对所述像素界定层进行显影之前,所述制作方法还包括:在所述钝化层的背离所述衬底的表面上形成隔垫物层。

3.根据权利要求1或2所述的显示基板的制作方法,其特征在于,

所述像素界定层的制作材料包括正性光刻胶;

对所述像素界定层进行曝光,包括对所述像素界定层的待去除部分进行曝光。

4.根据权利要求3所述的显示基板的制作方法,其特征在于,在所述制作方法包括形成隔垫物层的情况下,所述隔垫物层的制作材料与所述像素界定层相同;

对所述像素界定层进行显影还包括:

通过一次显影工艺对所述隔垫物层和所述像素界定层进行显影,以获得图案化的隔垫物层和图案化的像素界定层。

5.一种显示基板,其特征在于,采用如权利要求1~4任一项所述的显示基板的制作方法制作形成;所述显示基板包括:衬底、设置于所述衬底上的多个第一电极、以及层叠设置于所述多个第一电极的背离所述衬底的表面上的像素界定层和钝化层;其中,

所述钝化层包括多个第一开口,所述像素界定层包括与所述第一开口一一对应的第二开口;所述第一开口在所述衬底上的正投影位于对应的所述第二开口在所述衬底上的正投影内,且所述第一开口和所述第二开口构成第二电极隔断槽。

6.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括多个隔垫物;所述多个隔垫物分散位于所述钝化层的背离所述衬底的表面上和/或所述像素界定层的未被所述钝化层覆盖的表面上。

7.根据权利要求5或6所述的显示基板,其特征在于,所述像素界定层还包括与所述第一电极一一对应的多个第三开口,所述第一电极的部分裸露于对应的所述第三开口内;所述钝化层不覆盖所述多个第三开口;

所述显示基板还包括:层叠设置于所述钝化层的背离所述衬底的一侧的发光层和第二电极层;

位于相邻两个所述第三开口内的发光层以及第二电极层通过对应的所述第二电极隔断槽隔断。

8.根据权利要求5或6所述的显示基板,其特征在于,所述第二开口在垂直于所述衬底的平面上的正投影形状包括倒梯形。

9.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求5~8任一项所述的显示基板。

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