[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置

说明书

本公开实施例公开了一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于实现电极的图案化，并确保不同像素对应的电极之间有效隔断。所述显示基板的制作方法包括：提供一衬底，在衬底的一侧形成第一电极层。在第一电极层的背离衬底的表面上形成像素界定层。在曝光后的像素界定层的背离衬底的表面上形成钝化层，钝化层包括多个第一开口。对像素界定层进行显影，形成与各第一开口分别对应的第二开口。第一开口在衬底上的正投影位于对应的第二开口在衬底上的正投影内，且所述第一开口和所述第二开口构成第二电极隔断槽。本公开一些实施例提供的显示基板及其制作方法、显示装置用于OLED基板中相邻阴极之间的隔断。

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

OLED(Organic Light Emitting Diode，有机电致发光二极管)显示装置由于具有自发光、响应速度快、亮度高、全视角、可柔性显示等一系列优点，因而成为目前极具竞争力和发展前景的显示装置之一。

按照OLED显示装置中OLED驱动方式的不同，OLED显示装置包括有源矩阵有机电致发光二极管(Active-matrix organic light emitting diode，简称AMOLED)显示装置和无源矩阵有机电致发光二极管(Passive-matrix organic light emitting diode，简称PMOLED)显示装置。

发明内容

本公开一些实施例的目的在于提供一种显示基板及制作方法、显示装置，用于实现电极(例如OLED的阴极)的图案化，并确保不同亚像素对应的电极之间有效隔断。

为达到上述目的，本公开一些实施例提供了如下技术方案：

第一方面，提供了一种显示基板的制作方法。所述显示基板的制作方法，包括：提供一衬底，在衬底的一侧形成图案化的第一电极层。在第一电极层的背离衬底的表面上形成像素界定层，对像素界定层进行曝光。在曝光后的像素界定层的背离衬底的表面上形成钝化层，该钝化层包括多个第一开口。对像素界定层进行显影，在像素界定层的与第一开口对应的部分形成第二开口。第一开口在衬底上的正投影位于对应的第二开口在衬底上的正投影内，且第一开口和第二开口构成第二电极隔断槽。

在本公开实施例中，第二电极隔断槽由像素界定层中的第二开口和钝化层中对应的第一开口叠加构成。这样在制作该显示基板的过程中，先完成像素界定层的曝光工艺，并在制作钝化层以及钝化层中的第一开口等后续工艺之后，再对像素界定层中待形成第二开口的区域进行显影去除，能够避免钝化层以及后续其他膜层的制作工艺对像素界定层中的第二开口产生不良影响，例如使得钝化层或其他膜层在第二开口内残留填充，从而影响第二开口的成型形状。

如此，在确保第一开口在衬底上的正投影位于对应的第二开口在衬底上的正投影内的情况下，利用像素界定层中的第二开口和钝化层中对应的第一开口，能够形成边缘较为清晰锐利、形状类似于倒T形且具有足够槽深的第二电极隔断槽，从而有效实现第二电极层的图案化，并确保不同亚像素对应的第二电极(例如OLED的阴极)之间能够有效隔断。

综上，与相关技术中第二电极隔断槽由平坦化层中的第一沉槽和钝化层中的第一开口构成，且像素界定层形成在钝化层的背离衬底的表面相比，本申请实施例提供的显示基板的制作方法，有效简化了显示基板的制作工艺，并能确保显示基板中第二电极隔断槽的成型效果，避免出现先形成第二电极隔断槽再被后续膜层残留填充的问题，从而可以利用各第二电极隔断槽有效实现第二电极(例如OLED的阴极)的图案化，并确保不同亚像素对应的第二电极之间能够有效隔断。

在一些实施例中，在对像素界定层进行显影之前，该显示基板的制作方法还包括：在钝化层的背离衬底的表面上形成隔垫物层。

在一些实施例中，像素界定层的制作材料包括正性光刻胶。对像素界定层进行曝光，包括对像素界定层的待去除部分进行曝光。