[发明专利]静电吸盘

权利要求书

1.一种静电吸盘，具备：

陶瓷电介体基板，具有载放吸附的对象物的第1主面、与所述第1主面呈相反侧的第2主面；

基座板，支撑所述陶瓷电介体基板；

至少1个第1电极层，被设置于所述陶瓷电介体基板的内部，与高频电源连接；

及至少1个第2电极层，被设置于所述陶瓷电介体基板的内部，与吸附用电源连接，其特征在于，

在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的Z轴方向上，所述第1电极层被设置在所述第1主面和所述第2主面之间，

所述第1电极层的所述Z轴方向上的尺寸比所述第2电极层的所述Z轴方向上的尺寸更大，

在所述Z轴方向上，所述第2电极层被设置在所述第1电极层和所述第1主面之间，

所述第1电极层具有所述第1主面侧的第1面、与所述第1面呈相反侧的第2面，

在从所述第2面侧供电的静电吸盘上，

所述第1电极层包含陶瓷成分和金属成分，且具有包含所述第1面的第1部分，

所述第1部分上的所述陶瓷成分的浓度比所述第1电极层的所述陶瓷成分的平均浓度更高。

2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述第1部分上的所述陶瓷成分的浓度比所述第1电极层上的所述第1部分以外的部分上的所述陶瓷成分的浓度更高。

3.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，

所述第1电极层还具有在所述Z轴方向上与所述第1部分邻接的第2部分，

所述第1部分上的所述陶瓷成分的浓度比所述第2部分上的所述陶瓷成分的浓度更高。

4.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，

所述第1电极层还具有包含所述第2面的第3部分，

所述第3部分上的所述金属成分的浓度比所述第1电极层的所述金属成分的平均浓度更高。

5.根据权利要求4所述的静电吸盘，其特征在于，所述金属成分的导热系数比所述陶瓷成分的导热系数更大。

6.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，

所述第1电极层还具有包含所述第2面的第3部分，

所述第3部分上的所述金属成分的浓度比所述第1电极层上的所述第3部分以外的部分上的所述金属成分的浓度更高。

7.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，

所述第1电极层还具有包含所述第2面的第3部分、在所述Z轴方向上与所述第3部分邻接的第4部分，

所述第3部分上的所述金属成分的浓度比所述第4部分上的所述金属成分的浓度更高。

8.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述第1部分上的所述金属成分的浓度为30％以上。

9.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述陶瓷成分与所述陶瓷电介体基板的主成分相同。

10.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述陶瓷成分包含氧化铝、氮化铝、碳化硅、氮化硅及氧化钇的至少1种。

11.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述金属成分包含钯、银、铂、钼及钨的至少1种。

12.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述第1电极层的厚度为1μm以上500μm以下。

13.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，

所述第1电极层还具有包含所述第2面的第3部分，

所述第3部分上的所述金属成分的浓度比所述第2电极层的金属成分的平均浓度更高。