[发明专利]对准装置、基板处理装置、对准方法以及基板处理方法

权利要求书

1.一种对准装置，其是调节矩形基板的配置位置的对准装置，具备：

载置台，其设定有用于将两张矩形基板相邻地排列配置的第1基板配置区域和第2基板配置区域；

第1限制部和第2限制部，在将从构成被配置于所述第1基板配置区域的矩形基板的4个角部选择的1个角部设为第1角部时，该第1限制部和该第2限制部分别限制形成所述第1角部的两个边部的配置位置；

第1压靠部，其从与形成所述第1角部的两个边部相对的方向朝向所述第1限制部和所述第2限制部压靠矩形基板；

第3限制部和第4限制部，在将从构成被配置于所述第2基板配置区域的矩形基板的4个角部选择的1个角部设为第2角部时，该第3限制部和该第4限制部分别限制形成所述第2角部的两个边部的配置位置；

第2压靠部，其从与形成所述第2角部的两个边部相对的方向朝向所述第3限制部和所述第4限制部压靠矩形基板；以及

移动机构，为了使从所述第1角部和所述第2角部向与所述两张矩形基板的排列方向交叉的方向延伸的两个边部的分开间隔和这些边部所成的角度变化，该移动机构使所述第1限制部～所述第4限制部分别移动。

2.根据权利要求1所述的对准装置，其中，

所述移动机构能够变更所述分开间隔和所述角度的设定值。

3.根据权利要求1或2所述的对准装置，其中，

在将使所述分开间隔和所述角度变化的两个边部称为第1边部和第3边部时，以所述第1边部和所述第3边部位于相邻地配置的位置的方式选择了所述第1角部和所述第2角部。

4.根据权利要求3所述的对准装置，其中，

在利用所述第1限制部和所述第3限制部分别限制所述第1边部和所述第3边部的配置位置时，

所述第1限制部和所述第3限制部设置于通用移动机构，该通用移动机构是能够使所述第1限制部和所述第3限制部的沿着与所述两张矩形基板的排列方向交叉的方向观察到的分开间隔变化的通用的所述移动机构。

5.根据权利要求4所述的对准装置，其中，

所述第1限制部及所述第3限制部与所述通用移动机构的组沿着所述第1边部与所述第3边部之间的间隙设置有多组。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的对准装置，其中，

在将形成所述第1角部的两个边部的一个边部称为第1边部、将形成所述第1角部的两个边部的另一个边部称为第2边部、将形成所述第2角部的两个边部的一个边部称为第3边部、将形成所述第2角部的两个边部的另一个边部称为第4边部时，

所述第1压靠部具备：第1边部相对压靠部，其从与所述第1边部相对的方向压靠矩形基板；和第2边部相对压靠部，其从与所述第2边部相对的方向压靠矩形基板，

所述第2压靠部具备：第3边部相对压靠部，其从与所述第3边部相对的方向压靠矩形基板；和第4边部相对压靠部，其从与所述第4边部相对的方向压靠矩形基板，

所述第1边部相对压靠部朝向第1边部压靠矩形基板的时刻与所述第2边部相对压靠部朝向第2边部压靠矩形基板的时刻互不相同，所述第3边部相对压靠部朝向第3边部压靠矩形基板的时刻与所述第4边部相对压靠部朝向第4边部压靠矩形基板的时刻互不相同。

7.一种基板处理装置，其具备：

加载互锁模块，其具备权利要求1～6中任一项所述的对准装置，构成为自由地切换常压气氛和真空气氛；

真空输送模块，其与所述加载互锁模块连接，具备在真空气氛下同时输送被所述对准装置调节了配置位置的两张矩形基板的基板输送机构；以及

基板处理模块，其与所述真空输送模块连接，收纳由所述基板输送机构输送来的两张矩形基板，在真空气氛下进行基板处理。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中，

多个所述基板处理模块连接于所述真空输送模块。