[发明专利]平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体及其制造方法

权利要求书

1.一种平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体，在四边框形态的框架拉伸薄膜掩膜来接合而成，其特征在于，上述框架通过冲压装置所施加的矫正力相对于4个边中心部向下塑性变形规定间隔，使得上述框架的4个角以上述4个边中心部为基准向下方变形。

2.根据权利要求1所述的平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体，其特征在于，向上述框架施加的矫正力的大小为与随着上述掩膜的拉伸使上述框架的4个角翘起的上方弯曲力抵消至少一部分的大小。

3.根据权利要求1所述的平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体，其特征在于，上述框架及掩膜由不锈钢或因瓦合金材质制成。

4.根据权利要求1所述的平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体，其特征在于，上述框架的厚度处于10～40mm的范围，上述掩膜的厚度处于20～500μm的范围，上述框架的塑性变形间隔处于10～200μm的范围。

5.根据权利要求1所述的平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体，其特征在于，上述掩膜组装体包括处理有机发光二极管所使用的精细金属掩膜、开放式掩膜或化学气相沉积掩膜。

6.一种平坦度得到改善的掩膜组装体制造方法，其是在四边框形态的框架拉伸薄膜掩膜来接合而成的薄膜蒸镀用掩膜组装体制造方法，其特征在于，包括：

准备步骤，准备四边框形态的框架及薄膜掩膜；

冲压步骤，通过施加以上述框架的4个边中心部为基准使4个角向下方变形的冲压装置所提供的矫正力，上述4个角相对于上述4个边中心部向下塑性变形规定间隔；以及

掩膜拉伸接合步骤，拉伸上述掩膜来使其与受到上述矫正力的框架相接合。

7.根据权利要求6所述的平坦度得到改善的掩膜组装体制造方法，其特征在于，在上述掩膜拉伸接合步骤中，向上述掩膜施加的拉伸力的大小为使向上述框架提供的矫正力与将会通过因上述掩膜的拉伸所引起的上述掩膜的应力向上述框架的多个角施加的上方弯曲力相互抵消至少一部分的大小。

8.根据权利要求6所述的平坦度得到改善的掩膜组装体制造方法，其特征在于，上述冲压步骤通过如下的方式执行：通过施加力来使上述4个角从中间位置朝向下方隔开规定初始值d，之后，若所施加的力消失，则通过上述框架的弹性，上述初始值d恢复到原位置，从而被减少成更小的最终值d'。

9.根据权利要求6所述的平坦度得到改善的掩膜组装体制造方法，其特征在于，上述冲压步骤通过如下的方式执行：在固定上述4个边的中心部的状态下，通过从上方向下方按压上述4个角来提供上述矫正力。

10.根据权利要求6所述的平坦度得到改善的掩膜组装体制造方法，其特征在于，上述冲压步骤通过如下的方式执行：在固定上述4个角的状态下，通过从下方向上方按压上述4个边中心部来提供上述矫正力。

11.一种平坦度得到改善的掩膜组装体制造方法，其特征在于，包括：

准备步骤，准备四边框形态的框架及薄膜掩膜；

掩膜拉伸接合步骤，拉伸上述掩膜后，使其与上述框架相接合；

平坦度测定步骤，测定通过上述掩膜拉伸接合步骤制造的掩膜组装体的平坦度；以及

冲压步骤，考虑所测定的平坦度，通过施加以上述掩膜组装体的4个边中心部为基准使4个角向下方变形的冲压装置所提供的矫正力来塑性变形规定间隔。

12.根据权利要求11所述的平坦度得到改善的掩膜组装体制造方法，其特征在于，在上述冲压步骤中，向上述框架提供的矫正力的大小为与通过因上述掩膜的拉伸所引起的上述掩膜的应力向上述框架的多个角施加的上方弯曲力相互抵消至少一部分的大小。