[发明专利]一种光刻机运动台系统和光刻机

说明书

本发明属于光刻技术领域，具体的说是一种光刻机运动台系统和光刻机，包括基座和基座上的工作台，工作台与基座之间设有随动台，随动台一侧固连有反光板，基座上方两侧对称设有一号支架与二号支架，一号支架上安装有倾斜向下的激光发射器，二号支架上与激光发射器对应位置设有感光板，感光板与激光发射器均通过控制器连接电源；激光发射器发出的激光经反光板反射后打在感光板上；随动台与水平驱动单元之间设有一组补偿单元，补偿单元通过控制器连接电源；本发明通过补偿单元补偿随动台受热后引起的变形。

技术领域

本发明属于光刻技术领域，具体的说是一种光刻机运动台系统和光刻机。

背景技术

光刻机(Mask Aligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

生产集成电路的简要步骤：

1、利用模版去除晶圆表面的保护膜。

2、将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。

3、用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

现有技术中也出现了一些关于光刻机的技术方案，如申请号为2015110318316的一项中国专利公开了一种光刻机运动台系统和光刻机，所述光刻机运动台系统，包括基座台和位于基座台上方的工件台，还包括设置在基座台和工件台之间的随动台，所述随动台上表面始终作为所述工件台的气浮支撑面。本发明提供的技术方案，通过在基座台和工件台之间增加一个对工件台作跟随运动的随动台，将随动台上表面作为工件台的气浮支撑面，即使是大行程工件台也无需加工大面积气浮支撑面，使气浮式工件台的行程不再受限，大大拓展了使用范围，另外，因随动台面积有限，加工制造更容易，完全能够达到气浮支撑面所需的平整度和刚度，特别是在大行程工件台的领域，可以有效降低制造成本和制造难度；但现有技术中驱动随动台的驱动单元与随动台之间具有运动间隙，不能保证随动台的水平精度，同时由于随动台驱动单元的运动摩擦发热和环境温度的变化，使得随动台受温度影响而膨胀变形，进一步影响随动台表面的水平精度。

发明内容

为了弥补现有技术的不足，解决现有技术中驱动随动台的驱动单元与随动台之间具有运动间隙，不能保证随动台的水平精度，同时由于随动台驱动单元的运动摩擦发热和环境温度的变化，使得随动台受温度影响而膨胀变形，进一步影响随动台表面水平精度的问题，本发明提出的一种光刻机运动台系统和光刻机。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：本发明所述的一种光刻机运动台系统和光刻机，包括基座和基座上的工作台，工作台与基座之间设有随动台，随动台上表面始终作为所述工作台的气浮支撑面，随动台通过其底部设置的水平驱动单元控制移动；所述基座上设有垂直移动单元与水平移动单元，垂直移动单元与水平移动单元用于驱动光刻单元位移；所述随动台一侧固连有反光板，基座上方两侧对称设有一号支架与二号支架，一号支架上安装有倾斜向下的激光发射器，二号支架上与激光发射器对应位置设有感光板，感光板与激光发射器均通过控制器连接电源；所述激光发射器发出的激光经反光板反射后打在感光板上；所述随动台与水平驱动单元之间设有一组补偿单元，补偿单元通过控制器连接电源，补偿单元用于补偿随动台受热后引起的变形；工作时，当随动台因环境温度引起变形，或者水平驱动单元的发热和传动间隙引发的随动台表面不平时，随动台带动反光板发生微小的上升，此时激光发射器发出的激光光束经反射板的反射之后，打在感光板上，反射板的位移将导致感光板上光束位置的变化，感光板将光束的位置变化信息传递给控制器，之后通过控制器控制补偿单元，补偿单元对随动台受热后引起的变形进行补偿，进而保证随动台的水平，保证光刻机运动台系统的运动精度。