[发明专利]一种印制电路板显影去膜废水预处理系统在审

专利信息
申请号: 202010204895.6 申请日: 2020-03-22
公开(公告)号: CN111392961A 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 任大军;廖泽远;陶敏 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14;C02F101/30
代理公司: 北京棘龙知识产权代理有限公司 11740 代理人: 戴丽伟
地址: 430081 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 印制 电路板 显影 废水 预处理 系统
【权利要求书】:

1.一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,包括用于收集显影去膜废水的显影去膜废水收集池(1),其特征在于:还包括酸化池(2)、Fenton池(3)、电催化池(4),所述显影去膜废水收集池(1)的出水口与所述酸化池(2)的进水口连接,所述酸化池(2)的出水口与所述Fenton池(3)的进水口连接,所述Fenton池(3)的出水口与所述电催化池(4)的进水口连接;所述酸化池(2)包括依次连接的第一调节池(2a)、酸化反应池(2b)、絮凝池(2c),所述酸化反应池(2b)上设有供废酸池内所收集印制电路板生产过程中产生的废酸通入的废酸管道(2d),所述絮凝池(2c)连接有第一加药装置;所述Fenton池(3)包括依次连接的第二调节池(3a)、Fenton反应池(3b)、第一混凝沉淀池(3c),所述Fenton反应池(3b)连接有第二加药装置,所述第一混凝沉淀池(3c)连接有第三加药装置;所述电催化池(4)包括依次连接的第三调节池(4a)、电催化反应池(4b)、第二混凝沉淀池(4c),所述电催化反应池(4b)连接有第四加药装置、且池内设有电极板(4d),所述第二混凝沉淀池(4c)连接有第五加药装置;所述酸化反应池(2b)、Fenton反应池(3b)、电催化反应池(4b)内还分别设有曝气装置。

2.根据权利要求1所述的一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,其特征在于:所述显影去膜废水收集池(1)、酸化池(2)、Fenton池(3)、电催化池(4)依次通过中间管道连接,且每根所述中间管道上均设有提升泵和管道流量计。

3.根据权利要求1所述的一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,其特征在于:所述酸化反应池(2b)、Fenton反应池(3b)、第一混凝沉淀池(3c)、第二混凝沉淀池(4c)内分别设有PH计。

4.根据权利要求2所述的一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,其特征在于:所述显影去膜废水收集池(1)上设有废水进水管道(1a),所述废水进水管道(1a)上设有所述管道流量计。

5.根据权利要求4所述的一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,其特征在于:所述酸化池(2)、Fenton池(3)、电催化池(4)分别包括的三个池均是由对应的所述酸化池(2)、Fenton池(3)、电催化池(4)通过墙体分隔形成,所述墙体上设有用于连通相邻两个池的中间通道,所述中间通道内设有控制水流流通的阀门。

6.根据权利要求5所述的一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,其特征在于:所述显影去膜废水收集池(1)、酸化池(2)、Fenton池(3)、电催化池(4)与对应管道的连接处均设有所述阀门。

7.根据权利要求3所述的一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,其特征在于:所述显影去膜废水收集池(1)内设有所述PH计。

8.根据权利要求1所述的一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,其特征在于:所述第一加药装置包括PAC加药罐或PAM加药罐(2e),所述第二加药装置包括过氧化氢加药罐(3d)和硫酸亚铁加药罐(8),第二加药装置还包括盐酸加药罐(9)或硫酸加药罐,所述第三加药装置和第五加药装置均包括氢氧化钠加药罐(5)和混凝剂加药罐(6),所述第四加药装置包括氯化钠加药罐(4e)和硫酸亚铁加药罐(8)。

9.根据权利要求1所述的一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,其特征在于:所述曝气装置包括若干曝气头(7),所述曝气头(7)设置在对应池的底部。

10.根据权利要求1所述的一种印制电路板显影去膜废水预处理系统,其特征在于:所述酸化池(2)与Fenton池(3)之间设有压滤机。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉科技大学,未经武汉科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010204895.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top